二维材料指电子仅可在两个维度的纳米尺度（1-100 nm）上自由运动（平面运动）的材料，如纳米薄膜、超晶格、量子阱等。

光刻技术是一种关键的芯片制造工艺，主要用于在芯片表面上制造微米级别的结构。光刻技术可以将高精度的芯片图案转移到光刻胶上，再通过化学腐蚀等方法进行芯片加工。

在如今这个基于电子技术的信息时代，电子产业当之无愧是世界上规模最大的产业，而半导体器件正是这个产业的基础。光刻是集成电路技术中最关键的加工工艺，光刻机更是制造芯片所需要的核心设备。

微流控指的是使用微管道（尺寸为数十到数百微米）处理或操纵微小流体（体积为纳升到阿升）的系统所涉及的科学和技术，是一门涉及化学、流体物理、微电子、新材料、生物学和生物医学工程的新兴交叉学科。

托托科技的无掩膜光刻设备内嵌了光学临近效应修正技术。在半导体制造技术中，光刻是一种对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性曝光的技术。不过，由于物理限制(如衍射效应和光学影像形变等)，光刻所得到的图形产生圆角及失真，无法制备出与设计完全相符的图形样品。这就需要使用光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction，OPC)技术，以确保光刻图案的可靠性和精确性。

近年来，微纳3D打印技术在学术界和制造业界引起了极大的热度和反响。微纳3D打印技术是一种高精度、高分辨率的立体成型技术，可以制造微米到毫米级别的复杂三维结构。微纳尺度的结构和器件在材料科学、生物医学、光电领域具有广泛的应用前景。而光固化微纳3D打印技术作为一项先进的制造技术，正在引领着微纳尺度制造的新纪元。

随着科学技术的不断推进，器件逐步朝着小型化，集成化发展。将大规模的电路、传感器、执行器等集成在一片或多片芯片上，使传统机电系统微缩至微米甚至纳米尺度，这种微系统被称为MEMS，即微机电系统（Micro-Electro-Mechanical System）。MEMS已经在消费电子产品、航空航天设备及生物医学等领域中得到了广泛的应用。

紫外光刻是指紫外光源对光刻胶进行空间选择性曝光，进而将所设计好的图形转移到硅片上的技术。光刻是一个复杂的物理化学过程，具有大面积、易操作、可量产和低成本等特点，是半导体器件与大规模集成电路制造的核心步骤。