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光学3D显微镜：摩擦学研究的“新宠”
在摩擦学研究中，磨损量、表面粗糙度等参数的精准测量一直是研发/生产中的核心挑战。传统的测量方法，如探针式轮廓仪和原子力显微镜，虽然在一定程度上有效，但也面临着效率低、可能损伤样品以及无法一次性精确捕捉复杂表面形貌等问题，让科研人员头疼不已。在这种背景下，光学3D显微镜凭借其卓越的性能，一跃成为摩擦学领域的“新宠”，它究竟有何过人之处？下面，让我们来仔细拆解。
넶0 2025-04-25 -
磁光克尔显微镜：让磁场“显形”的黑科技，到底有多神奇？
你是否想过，科学家如何“看见”一块金属内部的磁场？没有颜色，没有形状，磁场仿佛隐形在材料中。但有一种“魔法”——磁光克尔显微镜，能让磁场“原形毕露”。今天，我们就来揭开它的神秘面纱！
넶107 2025-02-21 -
轻松掌握光刻工艺：坚膜
光刻工艺是半导体制造中的核心技术之一，在芯片的精密制造过程中扮演着至关重要的角色。在众多光刻步骤中，坚膜是一个不可忽视的环节。它直接影响到图案转移的质量与效果，进而决定着芯片的性能和稳定性。那么，如何通过掌握坚膜技巧，提升光刻工艺的精度和效率呢？今天，我们就来深入解析这个环节，帮助大家更好地理解并掌握坚膜技巧。
넶78 2025-01-17 -
轻松掌握光刻工艺：显影
在这个科技日新月异的时代，半导体制造技术作为支撑现代电子工业的基石，正以前所未有的速度发展。而光刻工艺，作为半导体制造中的关键环节，更是直接决定了芯片的性能和质量。而显影作为光刻过程中的关键环节，其技巧的掌握程度直接影响到最终产品的质量。本文将深入解析显影技巧，帮助您轻松掌握这一技术。
넶109 2025-01-09 -
轻松掌握光刻工艺：后烘
在半导体制造和集成电路设计的复杂世界中，光刻工艺（Photolithography）无疑是一个至关重要的环节。它不仅决定了芯片上电路图案的精确度和复杂度，还直接影响到最终产品的性能和可靠性。而在光刻工艺中，后烘（Post Exposure Bake, PEB）作为曝光后的关键步骤，其重要性不容忽视。本期TuoTuo科普就让我们一起深入了解光刻工艺中的后烘技巧，助力科研工作者轻松掌握这一关键环节。
넶213 2024-12-27
