无掩膜光刻技术，进展如何？

01  光刻技术
光刻技术是一种关键的芯片制造工艺，主要用于在芯片表面上制造微米级别的结构。光刻技术可以将高精度的芯片图案转移到光刻胶上，再通过化学腐蚀等方法进行芯片加工。

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02  光刻技术的优点
随着科技发展和人们对小尺寸、高性能芯片的需求增加，传统的机械加工方法无法满足芯片制造的要求。而光刻技术可以制造出更小、更复杂的芯片结构，并且具有高精度、高效率的特点。因此，光刻技术成为了现代芯片制造工艺中必不可少的一环。

引用出处：https://www.zhihu.com/

03  有掩膜光刻技术
光刻技术主要应用于半导体工业中，用于制造各种类型芯片，例如微处理器、存储器、CMOS图像传感器等等。此外，在MEMS（微电子机械系统）等领域也需要使用光刻技术。

光刻技术根据是否需要使用掩膜版可分为有掩膜光刻和无掩膜光刻两种。

有掩膜光刻技术是指利用特定波长的光进行辐照，将掩膜版上的芯片图案转移到光刻胶上，然后通过刻蚀等方法进行加工。有掩膜光刻技术具有精度高、可靠性好的优点，但需要制备掩膜版，这增加了成本和时间，并且在制造不同型号的芯片时需要更换掩膜版。

04  无掩膜光刻技术
而无掩膜光刻技术则不需要制备掩膜版，直接通过计算机控制空间光调制器或激光直写等设备将芯片图案直接投射到光刻胶上进行加工。这种光刻技术的优点是灵活性高、制作周期短、成本低等。

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05  无掩膜光刻技术的进展
基于数字微镜器件（DMD）的无掩膜光刻技术是目前应用最广泛的光刻技术之一。它利用数字微镜器件将芯片图案直接投射到光刻胶上，从而实现高精度的芯片制造。这种技术能够快速制造出各种复杂的芯片结构，并且具有灵活性高、成本低等优点。此外，基于DMD的无掩膜光刻技术还具有可重复性好、制造周期短等优点，在快速迭代和小批量生产方面表现突出，未来有着广阔的应用前景。

引用出处：https://www.visitech.com.cn/

托托科技（苏州）有限公司是一家专注于显微光学加工和显微光学检测领域的公司，在基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术领域中进行了数年的深入研究和技术积累，其研制和生产的无掩膜紫外光刻机一经问世，就受到了诸多客户的青睐，在科研和工业领域都有广泛的应用。例如，在微纳加工领域，可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型传感器等；在光电子领域，可以用于制作光栅、衍射光学元件等。
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