光刻机又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩模版细分为有掩模和无掩模两种。无掩模光刻机是一种不需要使用传统掩模版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩模光刻机不需要掩模版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。