硅片（Prime级别）

Prime 级别硅片，即正片，该类硅片可用于半导体产品制造，在集成电路、MEMS和光学等领域都会使用。2、4、6、8寸单晶硅片，掺杂类型：N/P，晶向：<100>/<111>/<110>，电阻率：0.001-20000Ω·m，厚度：100um-5mm，可根据用户需求特殊定制。

硅片（Test级别）

Test级硅片，即测试片，该类硅片可作为工艺测试片使用，适用于对电学性能没有要求但对洁净度有要求的工艺检测和控制、设备性能评估和新工艺研发等场景。

硅片（Dummy级别）

Dummy级硅片，即假片/挡片/垫片，该类硅片各项参数指标次于test级硅片，但价格便宜，一般作为洁净度要求较低的单项工艺调试。

氧化硅片

氧化硅片是指表面有氧化硅层的硅片，一般是运用热氧化工艺在硅片表面生长一层二氧化硅薄膜。2、4、6、8寸氧化硅片，氧化层厚度20nm-10μm，氧化硅层厚度可根据用户需求特殊定制。

氮化硅片

氮化硅片是指表面有氮化硅层的硅片，一般是运用LPCVD工艺在硅片的表面沉积一层氮化硅薄膜。2、4、6寸氮化硅片，氮化硅层厚度100nm-1um，氮化硅层厚度可根据用户需求特殊定制。

玻璃片

玻璃片牌号较多，包括BF33(7740)、B270、D263T等。2、4、6寸玻璃片，厚度：300um-5mm，单/双面抛光，可根据客户需求特殊定制。

石英片

石英片分为熔融石英片和单晶石英片，具有耐高温、热膨胀系数低、电绝缘性能良好等特点。2、4、6寸石英片，厚度：300um-5mm，单/双面抛光，可根据客户需求特殊定制。

PbSe单晶薄膜

PbSe单晶薄膜是采用化学气相沉积（CVD）方法生长在SrTiO3衬底上的单晶薄膜，薄膜本身具有优秀红外光电转化特性。我们团队拥有从5 mm到2 inchs大小的PbSe生长工艺以保证在不同领域的应用需求。

蓝宝石片

蓝宝石的主要成分是氧化铝(Al2O3)，常用切面有A-Plane、C-Plane、R-Plane及M-Plane，常被用在光学元件、红外装置、高强度镭射镜片等光电元件上。2、4、6寸蓝宝石片，厚度：200um-1mm，单/双面抛光，可根据客户需求特殊定制。

S1800 G2系列

高分辨率正胶，胶厚范围0.4-2.7um，常用正性薄胶，粘附性好，极限线宽0.5um，可搭配LOR/PMGI系列做小线宽双层胶lift-off工艺。包含型号：S1805 G2、S1813 G2、S1818 G2

SPR955-CM系列

高分辨率正胶，胶厚范围0.7-3.5um，常用正性薄胶，粘附性好，极限线宽0.35um。包含型号：SPR 955-0.7、SPR 955-0.、SPR 955-1.1、SPR 955-1.4、SPR 955-1.8、SPR 955-2.1

SPR220系列

常用正胶，胶厚范围1-10um，可用于干法/湿法刻蚀、电镀等工艺。包含型号：SPR220-3.0、SPR220-4.5、SPR220-7.0

AZ 1500

高分辨率正胶，胶厚范围0.7-1.4.3um，常用正性薄胶，粘附性好，极限线宽0.5um。

AZ MIR 701/703

高分辨率正胶，胶厚范围0.7-1.4um，常用正性薄胶，粘附性好，极限线宽0.5um。

AZ 4620

常用正性厚胶，胶厚范围3-60um，可用于干法/湿法刻蚀、电镀等工艺。

SU-8系列

高深宽比负胶，胶厚范围0.5-650um,透明度高、陡直性好，可用于做绝缘层、微流控等工艺。

AZ nLOF 2000系列

nlof系列负性光刻胶，耐高温Lift-off光刻胶。包含型号：AZ nLOF 2020、AZ nLOF 2035、AZ nLOF 2070。

ROL-7133

国产常用负胶，适用光源/波长g/h/ i-line，胶厚范围2.2-4um，底切角度适中，可用于lift-off工艺做金属电极或导线。

PMMA

正性电子束光刻胶，高分辨率，适用于电子束光刻、二维材料转移、多层T-gate等工艺。

AZ 5214E

常用正性薄胶，胶厚范围1-1.6um，可搭配LOR/PMGI做双层胶lift-off工艺，也可以直接反转成负胶做lift-off工艺。

底层胶

双层胶lift-off工艺底层胶，可与 S1800 G2、SPR 955、AZ5214E等光刻胶搭配使用，胶厚范围50nm-6um，粘附性好，易去胶。

国产显影液

型号：RZX-3038 规格：4L/瓶 产品介绍：国产通用型光刻胶显影液，可用来显影S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多种系列和型号的光刻胶。

显影液AZ 400K

型号：AZ 400K 规格：加仑/瓶 产品介绍：进口光刻胶显影液，可用来显影AZ 等多种系列和型号的光刻胶。

显影液MF-319

型号：MF-319 规格：5L/瓶 产品介绍：进口光刻胶显影液，是S1800 G2系列光刻胶配套专用显影液。

显影液AZ 300 MIF Developer

型号：AZ 300 MIF Developer 规格：20L/桶 产品介绍：进口光刻胶显影液，可用来显影AZ 等多种系列和型号的光刻胶。

显影液PGMEA

型号：PGMEA 规格：4L/瓶 产品介绍：国产SU8光刻胶显影液

显影液SU-8 Developer

型号：SU-8 Developer 规格：4L/瓶 产品介绍：进口光刻胶去胶液，是SU-8系列产品配套专用显影液。

去胶液NMP

型号：NMP 规格：4L/瓶 产品介绍：国产通用型光刻胶去胶液，可用来去除S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等多种型号光刻胶。

去胶液Remover PG

型号：Remover PG 规格：4L/瓶 产品介绍：进口光刻胶去胶液，是SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等多个系列产品配套专用去胶液。

去胶液remover 1165

型号：remover 1165 规格：加仑/瓶 产品介绍：进口光刻胶去胶液，是S1800 G2、SPR 220系列、PM等系列产品配套专用去胶液。

去胶液AZ 400T STRIPPER

型号：AZ 400T STRIPPER 规格：加仑/瓶 产品介绍：进口光刻胶去胶液，是AZ系列产品配套专用去胶液。

增粘剂

型号：HMDS 规格：1L/瓶；加仑/瓶 产品介绍：光刻胶增粘剂，通过旋涂或熏蒸的方法使增粘剂附着在衬底表面，可有效改善光刻胶与衬底的粘附性，适用于玻璃、石英等粘附性比较差的衬底。