直写光刻，为光通信芯片研发按下“加速键”

托托科技无掩模版紫外光刻机，基于DMD数字光刻与灰度/矢量双模式，从原型打样到小批量试产，一机覆盖，让光通信芯片研发真正告别“等版焦虑”。

2026-06-15

告别掩模版！集矢量直写、平面光刻与灰度光刻于一体的微纳加工利器

在微纳加工领域，科研人员常面临一个矛盾：高精度1D线条绘制依赖矢量直写，大面积2D图案曝光青睐平面光刻，而立体2.5D结构制备又离不开灰度光刻——传统方案往往需要多台设备、多次切换，流程割裂且成本高昂。

托托科技自主研发的无掩模紫外光刻设备，通过激光直写技术与DMD无掩模版光刻技术将数字化设计直接转化为微纳结构，将矢量直写、平面光刻与灰度光刻三种能力集于一身是实验室中的“数字画笔”。

2026-05-06

为生命科学定制“芯”利器 | 托托科技BIO机型无掩模光刻机

在生命科学领域，微流控芯片被誉为“芯片实验室”，正驱动着生物分析、药物筛选和临床诊断技术的飞速革新。然而，一枚高性能的微流控芯片，其核心在于模具的精度与品质。面对传统光刻工艺的种种局限，您是否也曾陷入困境？

2026-03-27

无掩模紫外光刻机：驱动微纳光子学创新的核心利器

在当今微纳光子学快速演进的时代，从增强现实与激光雷达，到高密度光通信与精密光谱分析，光子器件的性能与应用边界正不断被重新定义。然而，传统光刻技术受限于掩模制作的高成本与长周期，往往成为制约创新设计快速实现的技术瓶颈。

2026-02-06

赋能微纳制造，引领科研创新丨托托科技•无掩模紫外光刻机2025年度总结

在实验室，一个颠覆性研究构想从诞生到落地，常被传统微纳加工的高成本、长周期和僵化迭代所阻碍。每一次设计修改，都意味数周等待与可观耗费，创新火花在流程中悄然黯淡。如何破局？托托科技·无掩模紫外光刻机，正是您手中的“数字画笔”。我们将数字化设计直接、快速、精准地转化为微纳结构，无需掩模版，即可在硅片、氧化硅片、玻璃片、石英片、蓝宝石片、乃至砷化镓片、氮化镓片等第二代/第三代半导体，以及各类柔性衬底与新型功能材料上自由书写，极大加速研发迭代。

2025-12-17

掩模与无掩模光刻：核心技术原理与适用场景全解析

光刻技术作为半导体制造与微纳加工的核心工艺，其发展直接决定了集成电路的性能与集成度。在当今技术路线中，掩模光刻与无掩模光刻分别代表了高效率批量制造与高灵活性定制化生产的两大方向。本文将系统解析两者的工作原理、典型应用场景及适用逻辑，助您做出最经济、最高效的技术选型。

2025-11-19