DOE加工误差大、效率低？托托科技无掩模紫外光刻机，让衍射光学设计迭代高效完成

衍射光学元件（Diffractive Optical Element，简称DOE），又称二元光学器件，是通过微纳结构调控光波衍射特性，实现对光场进行精密调控的一类光学元件。与传统的折射或反射型光学元件不同，DOE不单纯依赖光的折射来改变光路，而是利用其表面的微观结构使光波发生衍射，并在特定距离处产生干涉，从而形成预期的光强分布。衍射光学元件具有设计自由度高、衍射效率高、体积小、重量轻、加工成本低、易于复制等优点。

2026-08-17

灰度光刻：让微透镜阵列从设计图纸精准“落地”为HUD光学核心

近年来，抬头显示（HUD）正从高端车型的选配走向智能座舱的标配，增强现实抬头显示（AR-HUD）更成为各大车企竞相布局的重点。整套AR-HUD的成像效果、使用体验，高度依赖微透镜阵列（MLA）这一核心光学元件；它贯穿整机光机链路，覆盖图像生成单元PGU、扩散成像屏、背光模组、光波导HUD等核心部件，承担匀光、视场扩展、眼盒优化、杂散光抑制、整机小型化、光场3D成像等多重功能，是决定HUD可视范围、画面清晰度、整机体积的关键元器件直接决定驾驶员肉眼看到的虚拟画面质量。

2026-08-04

柔性微纳器件一体化加工方案｜无掩模版紫外光刻 + 高精度3D光刻

如今柔性微纳器件早已不再局限于简单平面线路，行业正向三维微结构集成化快速迭代。但传统加工工艺痛点扎堆：定制掩模成本居高不下、多层套刻精度难以把控；分步制备极易出现薄膜分层、图形错位，成品良率大打折扣；尤其柔性、曲面基底，想要做到微米级高精度对准套刻难度极大，加工出的线路边缘还容易失真变形。

针对行业普遍难题，托托科技推出“DMD无掩模紫外光刻 + 高精度3D光刻”协同加工方案。两套设备功能互补，一套产线即可覆盖柔性基底上的2D平面线路、2.5D灰度曲面、3D立体微结构全品类研发需求，实现结构一体化成型。

2026-07-24

直写光刻，为光通信芯片研发按下“加速键”

托托科技无掩模版紫外光刻机，基于DMD数字光刻与灰度/矢量双模式，从原型打样到小批量试产，一机覆盖，让光通信芯片研发真正告别“等版焦虑”。

2026-06-15

告别掩模版！集矢量直写、平面光刻与灰度光刻于一体的微纳加工利器

在微纳加工领域，科研人员常面临一个矛盾：高精度1D线条绘制依赖矢量直写，大面积2D图案曝光青睐平面光刻，而立体2.5D结构制备又离不开灰度光刻——传统方案往往需要多台设备、多次切换，流程割裂且成本高昂。

托托科技自主研发的无掩模紫外光刻设备，通过激光直写技术与DMD无掩模版光刻技术将数字化设计直接转化为微纳结构，将矢量直写、平面光刻与灰度光刻三种能力集于一身是实验室中的“数字画笔”。

2026-05-06

为生命科学定制“芯”利器 | 托托科技BIO机型无掩模光刻机

在生命科学领域，微流控芯片被誉为“芯片实验室”，正驱动着生物分析、药物筛选和临床诊断技术的飞速革新。然而，一枚高性能的微流控芯片，其核心在于模具的精度与品质。面对传统光刻工艺的种种局限，您是否也曾陷入困境？

2026-03-27