• 首页
  • 产品中心
    • 光学加工
      • 无掩模版紫外光刻机
      • 超高精度3D光刻设备
    • 光学检测
      • 3D显微镜/轮廓仪
      • 光电分析设备
      • 磁学分析设备
    • 加工服务及耗材
      • 代加工服务
      • 3D光刻材料
      • 光刻胶及配套试剂
    • 更多产品
      • 超低温恒温器
      • 激光器
      • 光学平台
      • 电输运接线盒
      • 显微物镜
  • 技术百科
  • 客户案例
  • 新闻中心
  • 关于我们
    • 公司简介
    • 技术支持
    • 在线留言
    • 联系我们
    • 加入我们
  • 首页
  • 产品中心
    • 光学加工
      • 无掩模版紫外光刻机
      • 超高精度3D光刻设备
    • 光学检测
      • 3D显微镜/轮廓仪
      • 光电分析设备
      • 磁学分析设备
    • 加工服务及耗材
      • 代加工服务
      • 3D光刻材料
      • 光刻胶及配套试剂
    • 更多产品
      • 超低温恒温器
      • 激光器
      • 光学平台
      • 电输运接线盒
      • 显微物镜
  • 技术百科
  • 客户案例
  • 新闻中心
  • 关于我们
    • 公司简介
    • 技术支持
    • 在线留言
    • 联系我们
    • 加入我们
类型 Life Sciences Young
型号 UV Litho-BIO E UV Litho-BIO S UV Litho-BIO L 型号 UV Litho-Y
特征尺寸 4 μm 2 μm 2 μm 特征尺寸 1.5 μm
最小等间距线栅 6 μm 4 μm 4 μm 最小等间距线栅 2.0 μm
光刻效率 镜头①:240 mm²/min 镜头①:30 mm²/min
镜头②:240 mm²/min
镜头③:400 mm²/min		 光刻效率 镜头①:20 mm²/min
最大胶厚 100 μm 400 μm 400 μm 套刻精度
(5 mm × 5 mm)		 1000 μm
套刻精度 2 μm 1 μm 1 μm 套刻精度
(50 mm × 50 mm)		 1500 μm
光源 LD:380 nm 光源* LED:405 nm / 380 nm
电动镜头切换 不支持 支持 电动镜头切换 不支持
样品尺寸 50 mm × 50 mm 100 mm × 100 mm 150 mm × 150 mm 样品尺寸 3 mm × 3 mm (最小)
50 mm × 50 mm (最大)
样品厚度 0-10 mm 样品厚度 0-10 mm
数据格式 GDS、DWG、DXF 数据格式 GDS、DWG、DXF
设备主体尺寸
(长×宽×高 mm)		 850 × 750 × 750 设备主体尺寸
(长×宽×高 mm)		 650 × 660 × 650
设备总重量 170 kg 设备总重量 75 kg
类型 Academic Speed
型号 UV Litho-ACA UV Litho-Pro+ UV Litho-ACA Master UV Litho-S UV Litho-S+
特征尺寸 0.8 μm 0.4 μm 1.0 μm 0.3 μm
最小等间距线栅 1.0 μm 0.8 μm 2.0 μm 0.5 μm
光刻效率 镜头①:3 mm²/min
镜头②:20 mm²/min
镜头③:100 mm²/min 		镜头①:1 mm²/min
镜头②:3 mm²/min
镜头③:20 mm²/min
镜头④:100 mm²/min 		镜头①:10 mm²/min
镜头②:60 mm²/min
镜头③:150 mm²/min 		镜头①:500 mm²/min
镜头②:1000 mm²/min
镜头③:2500 mm²/min 		镜头①:75 mm²/min
镜头②:300 mm²/min
镜头③:1200 mm²/min
套刻精度
(5 mm × 5 mm)		 400 μm 350 μm 500 μm 250 μm
套刻精度
(50 mm × 50 mm)		 1000 μm 700 μm 1000 μm 500 μm
光源* LED:405 nm / 380 nm LED:405 nm / 380 nm LED:405 nm / 390 nm LD:405 nm / 375 nm
电动镜头切换 支持 支持 支持
灰度光刻 选配 选配 不支持 选配 选配
样品尺寸 3 mm × 3 mm (最小)、50 mm × 50 mm (最大) 3 mm × 3 mm (最小)、200 mm × 200 mm (最大)
样品厚度 0-10 mm
数据格式 GDS、DWG、DXF
设备主体尺寸
(长×宽×高 mm)		 750 × 800 × 700 1150 × 950 × 2000 1700 × 1300 × 1950
设备总重量 170 kg 590 kg 1400 kg

技术参数

  • 科研版 · XXXXX

    科研版

    UV Litho - ACA Pro+ / Master

    步进/扫描双模式精密光刻，面向更高精度需求的科研场景。

    ·最小特征尺寸 0.4μm

    ·多规格物镜配置，曝光速率区间更广

    ·多波段 LED 光源可选

    ·可选灰度光刻配置

    获 取 报 价
    样 册 下 载
  • 高速版 · XXXXX

    UV Litho - S / S+

    高速版

    扫描式曝光架构，大面积高效光刻，适用于小批量生产制造。

    ·最小特征尺寸低至 0.3μm

    ·最高曝光速度 1200mm²/min，多档位镜头自由选配

    ·支持 8 英寸大尺寸基材加工

    ·可选灰度光刻配置

    获 取 报 价
    样 册 下 载
  • 生命科学版 · XXXXX

    UV Litho - BIO E / S / L

    生命科学版

    适配SU-8超厚胶，超高深宽比光刻无掩模光刻，聚焦微流控芯片、生物传感元件、单细胞分析器件研发制备。

    ·最高支持 400μm 超厚光刻胶曝光

    ·加工精度可达 2μm，最优套刻精度 1μm

    ·专属 380nm 波段 LD 光源，优化厚胶曝光算法

    ·覆盖小尺寸至 6 英寸全幅面试样

    获 取 报 价
    样 册 下 载

无掩模版紫外光刻

从高精度平滑线条绘制，到大面积平面图案曝光，再到微立体结构制备

优势锚点

4096阶 超高灰度分辨率

灰度阶数，直接决定三维微结构的复杂度上限。

4096阶的灰度能力，能够精准地在光刻材料上构建出具有高度复杂且细腻层次变化的微观结构或图案，为微纳制造领域带来卓越的工艺精度与丰富的设计可能性。

넳 넲

与传统的有掩模光刻相比，无掩模光刻机更加灵活便捷，省去了制版的时间和金钱成本，帮助您快速验证想法。

灵活设计，无需掩模版

应用方向

应用锚点  

参数锚点  

视频演示

相关资讯

视频锚点