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产品外观
型号	UV Litho-ACA	UV Litho-Pro+	UV Litho-ACA Master	UV Litho-S	UV Litho-S+
特征尺寸	0.8 μm	0.4 μm		1.0 μm	0.3 μm
最小等间距线栅	1.0 μm	0.8 μm		2.0 μm	0.5 μm
光刻效率	镜头①:3 mm²/min 镜头②:20 mm²/min 镜头③:100 mm²/min	镜头①:1 mm²/min 镜头②:3 mm²/min 镜头③:20 mm²/min 镜头④:100 mm²/min	镜头①:10 mm²/min 镜头②:60 mm²/min 镜头③:150 mm²/min	镜头①:500 mm²/min 镜头②:1000 mm²/min 镜头③:2500 mm²/min	镜头①:75 mm²/min 镜头②:300 mm²/min 镜头③:1200 mm²/min
套刻精度 (5 mm × 5 mm)	400 μm	350 μm		500 μm	250 μm
套刻精度 (50 mm × 50 mm)	1000 μm	700 μm		1000 μm	500 μm
光源*	LED:405 nm / 380 nm	LED:405 nm / 380 nm	LED:405 nm / 390 nm	LD:405 nm / 375 nm
电动镜头切换	支持	支持		支持
灰度光刻	选配	选配	不支持	选配	选配
样品尺寸	3 mm × 3 mm (最小)、50 mm × 50 mm (最大)			3 mm × 3 mm (最小)、200 mm × 200 mm (最大)
样品厚度	0-10 mm
数据格式	GDS、DWG、DXF
设备主体尺寸 (长×宽×高 mm)	750 × 800 × 700	1150 × 950 × 2000		1700 × 1300 × 1950
设备总重量	170 kg	590 kg		1400 kg

类型	Life Sciences				Young
产品外观				产品外观
型号	UV Litho-BIO E	UV Litho-BIO S	UV Litho-BIO L	型号	UV Litho-Y
特征尺寸	4 μm	2 μm	2 μm	特征尺寸	1.5 μm
最小等间距线栅	6 μm	4 μm	4 μm	最小等间距线栅	2.0 μm
光刻效率	镜头①:240 mm²/min	镜头①:30 mm²/min 镜头②:240 mm²/min 镜头③:400 mm²/min		光刻效率	镜头①:20 mm²/min
最大胶厚	100 μm	400 μm	400 μm	套刻精度 (5 mm × 5 mm)	1000 μm
套刻精度	2 μm	1 μm	1 μm	套刻精度 (50 mm × 50 mm)	1500 μm
光源	LD:380 nm			光源*	LED:405 nm / 380 nm
电动镜头切换	不支持	支持		电动镜头切换	不支持
样品尺寸	50 mm × 50 mm	100 mm × 100 mm	150 mm × 150 mm	样品尺寸	3 mm × 3 mm (最小) 50 mm × 50 mm (最大)
样品厚度	0-10 mm			样品厚度	0-10 mm
数据格式	GDS、DWG、DXF			数据格式	GDS、DWG、DXF
设备主体尺寸 (长×宽×高 mm)	850 × 750 × 750			设备主体尺寸 (长×宽×高 mm)	650 × 660 × 650
设备总重量	170 kg			设备总重量	75 kg

技术参数

UV Litho-ACA

UV Litho - ACA

科研版

高灵活性、高精度的优势，无需掩膜版，适用于科学研究。

·加工最小特征尺寸 0.8μm

·三档镜头分级曝光，三种加工速率自由切换

·4096 阶灰度光刻功能支持选配

·最大承载 6 英寸基片

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UV Litho-ACA Pro+/Master

科研升级版

UV Litho - ACA Pro+ / Master

步进/扫描双模式精密光刻，面向更高精度需求的科研场景。

·最小特征尺寸 0.4μm

·多规格物镜配置，曝光速率区间更广

·多波段 LED 光源可选

·可选灰度光刻配置

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UV Litho-S/S+

UV Litho - S / S+

高速版

扫描式曝光架构，大面积高效光刻，适用于小批量生产制造。

·最小特征尺寸低至 0.3μm

·最高曝光速度 1200mm²/min，多档位镜头自由选配

·支持 8 英寸大尺寸基材加工

·可选灰度光刻配置

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UV Litho-BIO E/S/L

UV Litho - BIO E / S / L

生命科学版

适配SU-8超厚胶，超高深宽比光刻无掩模光刻，聚焦微流控芯片、生物传感元件、单细胞分析器件研发制备。

·最高支持 400μm 超厚光刻胶曝光

·加工精度可达 2μm，最优套刻精度 1μm

·专属 380nm 波段 LD 光源，优化厚胶曝光算法

·覆盖小尺寸至 6 英寸全幅面试样

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UV Litho-Y

UV Litho - Y

教育版

轻量化桌面机型，非常适用于微电子、集成电路等先进加工制造的实验课程。

·稳定实现 1.5μm 加工精度，2 英寸标准加工幅面

·整机小型化设计仅 75kg，普通实验台面即可安放部署

·整机功耗低、运维简便，可完整演示无掩模光刻工艺流程

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