【展会回顾】第七届自旋量子态调控论坛

01展会介绍

“自旋量子态调控科技论坛”以自旋量子态的调控为核心主题。首届“自旋量子态青年科技论坛”于2017年12月在中科院半导体所成功举办，第二届至第六届分别由复旦大学、中国科学院苏州纳米所、三峡大学、大连理工大学、北京师范大学珠海校区承办。前六届论坛的成功举办团结和凝聚了一大批国内自旋量子态调控领域核心力量，极大地促进相关学者之间的合作与交流。自第五届开始，论坛在中国物理学会青年工作小组领导下，由学术组织委员会具体指导开展，凝聚物理、材料科学和工程、信息科学技术等多学科的力量，针对自旋电子学研究中的核心关键难点问题进行攻关，促进我国未来信息时代自旋电子研究工作的持续发展。

 

2024年“CPS青年学术平台”之“第七届自旋量子态调控论坛”将于2024年11月15–17日在安徽大学举办，安徽大学、中国科学院合肥物质科学研究院、中国科学技术大学承办，并通过中国物理学会网站和官微发布会议信息。本届论坛将围绕自旋动力学、自旋电子材料、自旋电子器件以及自旋量子态调控等自旋电子学前沿课题相关的基础物理及新技术、新方法，关注自旋领域近年来的研究新进展和新动态，进一步促进相关领域国内一线优秀青年学者之间的合作交流与协同创新，在自旋量子态调控领域做出真正有创新的科学研究，及推动应用技术的发展。

 

02现场直击

2024年11月15日至17日，第七届自旋量子态调控论坛在合肥隆重召开，吸引了来自国内外的众多专家学者和行业精英。作为量子科技领域的盛会，本次论坛聚焦自旋量子态的最新研究进展和应用前景，为参与者提供了一个交流思想、分享成果的平台。

 

 

托托科技作为受邀企业之一，在此次论坛上展示了其在磁光克尔显微测试系统、无掩膜紫外光刻机以及3D显微镜等方面的最新研发成果。这些技术的展示，体现了托托科技在量子科技领域的深厚积累。

 

磁光克尔显微测试系统能够提供高分辨率的磁性材料表面成像，对于研究自旋电子学和磁性材料具有重要意义。通过该系统，研究人员可以直观地观察到材料的磁畴结构，为自旋态调控提供了强有力的实验工具。

 

 

无掩膜紫外光刻机是托托科技另一项引人注目的技术。与传统光刻技术相比，无掩膜紫外光刻机无需使用复杂的掩膜版，大大简化了光刻流程，提高了生产效率。这项技术在微纳加工领域具有广泛的应用前景，特别是在量子芯片的制造中，能够实现更高精度的图案转移。

 

此外，托托科技展出的3D显微镜也吸引了众多参会者的目光。该显微镜采用了先进的光学成像技术，能够实现对微小样品的三维成像，为生物医学、材料科学等领域提供了新的研究手段。

 

 

论坛期间，托托科技的技术专家还与参会者进行了深入的交流和讨论，分享了公司在量子科技领域的最新研究成果和未来发展方向。

 

第七届自旋量子态调控论坛的成功举办，为行业的发展注入了新的活力，也为未来的技术突破奠定了坚实的基础。

 

03展品介绍

磁光克尔显微镜综合测试设备

 

磁光克尔显微镜综合测试设备，显微磁畴空间分辨率优于0.5微米，磁光克尔角分辨率优于0.1毫度，支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式。在追踪平面内数百万点的磁畴动态信息的同时，可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应，磁滞回线，磁畴翻转或扩展等观测。

 

磁光克尔显微镜综合测试设备产品亮点

智能照明系统

● 光源稳定且均匀
● 具备极向，纵向和横向测试能力
● 高亮度（4倍于市场上产品）

 

多功能显微系统

● 线偏振光和圆偏振光
● 提高相差畸变矫正
● 电动显微聚焦

 

矢量磁场系统

● 垂直磁场模式可达1.4T @1cm 间隙
● 面内磁场可达1.0T @1cm，0.36T @4cm 间隙适配低温恒温器；面内矢量磁场模式可达0.35T
● 面垂直磁场和面内磁场可快速切换

 

高端相机

● 超动态范围30000：1（十倍提升）

● 高量子效率>80%（1.2倍提升）

● 高速摄像和高分辨率

 

直流 / 交流探针

● 与外接电表匹配（6221，2400等）

● 配合高频电表
● 配合引线键合器件

 

高端光学平台

● 气浮隔振

●电子主动反馈隔振

 

案例分享

 

梯度自旋流实现无场翻转

(a) 在外磁场HZ=0 Oe，HX=0 Oe下，脉冲电流实现磁畴无场翻转及对应的翻转回线。1，2，3，…6表示负向的脉冲电流不断增加直至磁畴翻转图片;

(b)a，b，c…f表示正向电流不断增加直至磁畴翻转。其中顶层Pt厚度为2.5 nm。

 

DMI有效场以及磁畴速度测试

(a)DMI有效场(HDMI) 测量装置。

(b)垂直各向异性样品在面内磁场作用下，发生各向异性翻转。

(c)不同覆盖层的异质结样品，其磁畴运动速度随面内辅助磁场的变化

(d)DMI有效场导致磁畴翻转过程中出现倾斜角且DMI越大倾斜角越大。

 

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无掩膜版紫外光刻机

托托科技无掩膜版紫外光刻机具有高精度，高稳定性的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

 

案例分享

 

平面光刻

TUOTUO LOGO

 

IC

 

MEMS器件（a）

 

500 nm掩膜版

 

套刻精度测量标记图

 

MEMS器件（b）

 

灰度光刻

托托科技无掩膜版紫外光刻机支持256阶灰度光刻

菲涅尔透镜

TOF扩散器

波前调控器件

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3D显微镜

 

MV-1000神影系列3D显微镜结合高精度扫描和高精度算法，可以实现纳米级到毫米级尺度的表面形貌分析，包含粗糙度、台阶、面形轮廓、曲率等多种参数。由于其无接触（无损检测）、对样品表面刚性无要求、精度高、快速扫描等特点，已经被广泛运用于半导体、光学材料、生物芯片、金属表面、精密加工等行业。

 

MV-1000神影系列3D显微镜产品亮点

多模式：白光干涉、景深融合、共聚焦、明场观察不同观察模式，一台显微镜实现不同场景测量需求

高精度：在不同测量模式，可实现亚纳米到纳米级精度的分析结果

快速度：独有AI算法分析图样，实现“无延迟”的结果输出，体验“一键式”结果测量

模块化：无论是特殊样品需求还是功能需求，可提供“模块化”定制功能产品，满足各类特定场景工作流任务

 

适用多行业应用需求

MV-1000神影系列3D显微镜，以其卓越的光学检测技术，满足不同行业和应用场景的严苛需求。无论是生物 芯片、半导体、光学材料检测，我们都提供定制化的观 察和测量解决方案，以适应您的特定需求。

 

生物芯片

 

半导体

 

光学材料

 

在半导体检测领域，可在线检测晶圆台阶高度、平面度、粗糙度等参数。通过非接触式测量技术，避免晶圆产生划痕缺陷，同时实现高通量测量。

 

导航图

局部放大图

局部细节图

 

允许大尺寸晶圆拼接，导航寻图，进行快速检测

* 200亿像素融合拼接，支持区域导航功能，快速检测分析

 

光学材料领域，精密检测技术可以帮助提高光学镜片的产品质量与性能

表面粗糙度、面形等参数是影响光学镜片品控与性能的重要因素

 

生命科学领域，检测微流控芯片或其母版表面粗糙度，以及微流道高度和宽度，实现精确把控微流控芯片的反应效率、试剂混合程度、以及液体流速等因素

 

在3C电子产品及精密加工行业中，可快速、高精度地测量产品机加工划痕，粗糙度等指标

 

一键测量：简单易用

 

MV-1000神影系列显微镜采用前沿的一体化设计理念，将尖端科技与精密工艺完美融合。紧凑的内部构造和固定光学元件，不仅确保了操作的便捷性，更大幅提升了系统的稳定性与可靠性，让您的每一次观察都精准无误。

 

搭载我们独家研发的智能优化算法，MV-1000神影系列在任何工作模式下均能提供无与伦比的“实时”采集体验，快速响应，无需等待，实时图像采集让微观世界的每一次微妙变化尽在掌握。

 

深知行业差异化的重要性，MV-1000神影系列允许客户根据特定行业要求定制检测报告。从数据采集到报告生成，每一步都严格遵循您的标准，确保信息的精确传达和高效决策。

 

——点击图片查看设备详情——

 

04关于托托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线：

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

 

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

 

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。