客户成果丨新加坡国立大学《nature communications》:HfZrO₂/HfLaO₂多层膜中接近理论极化极限

新加坡国立大学材料科学与工程学院陈景升教授团队在铪基铁电薄膜领域取得最新进展,该研究成果为以Approaching theoretical polarization limit in HfZrO2/HfLaO2 multilayers为题发表在nature communications上。

HfO基铁电材料因其超薄薄膜中的强铁电性以及与硅基技术的良好兼容性,在非易失性存储器和铁电场效应晶体管等先进铁电电子器件领域展现出巨大潜力。然而,实现高剩余极化P)仍面临挑战,主要因为铁电正交相o-phase)的亚稳性。传统方法通过控制氧空位浓度和设计界面层来提o-phase比例,以及引ZrLa等掺杂剂来增P,但这些方法仍难以接近理论预测的极化极限。本研究提出了一种多层策略,通过引入应变来稳HfO基铁电薄膜中o-phase,从而实现接近理论极限的P

 

本研究采用脉冲激光沉积PLD)技术SrTiOSTO001)基底上外延生长Hf.Zr.OHZOHf.La.OHLO)多层薄膜,底电极层La.Sr.MnOLSMO)。通过精确控制每层厚度(0.9 nm)并重4次,构建HZO/HLO多层结构。研究利用高分辨X射线衍射XRD)、扫描透射电子显微镜STEM)以及密度泛函理论DFT)计算等手段,系统分析了多层薄膜的晶体结构、应变分布以及铁电性能。特别地,通PUND测量了薄膜的铁电滞后回线,评估了其剩余极化和耐久性。

1 展示HZOHZO/HLO多层薄膜的结构示意图及XRD表征结果。多层薄膜XRD图谱显示了一个尖锐o-phase特征峰,表明多层结构有效提高o-phase的结晶度。与单HZO薄膜相比HZO/HLO多层薄膜o-phase峰强度更高,半高宽更窄,表明其具有更高的晶体质量和更少的缺陷。此外,极图测量揭示HZO/HLO薄膜的晶体学畴遵循底STO基底的四重对称性,进一步证实了其正交或菱方对称性。

2 通过高角度环形暗场扫描透射电子显微镜HAADF-STEMHZO/HLO薄膜进行了原子级表征,并分析了其应变分布STEM图像清晰显示HZOHLO层的层状生长模式以及它们LSMO底电极层的高质量外延关系。原子级能量色X射线EDX)元素分布图揭示LaHfZr元素在结构中的混合分布,这归因于高温生长过程中的界面扩散。通过几何相位分析GPA)测量HZO/HLO异质结构中的面内和面外应变分布,发HZO/HLO层内部存在显著的面内压缩应变,这源HZOHLO层之间的晶格失配竞争。这种压缩应变有助于稳定铁o-phase

3 展示HZO/HLO薄膜的铁电性能表征结果。通PUND测量得到的典型铁电滞后回线显示7 nmHZO/HLO薄膜在室温下达到了56 μC/cm²的高剩余极化P),这是迄今为止所有外HfO基薄膜中报道的最高值。此外,该薄膜还表现出优异的耐久性,在室温下可承受高3×10次的循环测试而不发生击穿。与单HZO薄膜相比HZO/HLO多层薄膜P显著提高,且随着厚度的增加P逐渐降低,但仍优于相应厚度的单HZO薄膜。温度依赖P-E回路测量表明HZO/HLO薄膜P在低温下保持相对稳定,进一步证实了其高极化主要源于内在铁电行为。

4 DFT计算揭示HZOo-m-rm-相的形成能随面内晶格参数的变化关系,以La掺杂对极化切换能量势垒的影响。计算结果表明,LSMO缓冲层上o-m-相在能量上具有竞争力,rm-相始终代表较高能量状态。在无氧空位的情况下,当面内晶格参数小7.43 Åo-相是基态;当晶格参数超7.43 Åm-相成为基态。引La掺杂后T-路径(一种非常规极化切换路径)的能量势垒显著降低,甚至低N-路径(传统非交叉路径)的能量势垒。这表La掺杂促进T-路径的稳定化,从而实现了更高的极化值。随La掺杂浓度的进一步增加T-路径的能量势垒继续降低,进一步增强了极化切换的容易程度。

 

该工作中通过使用TuoTuo Technology 的紫外无掩模光刻(TuoTuo Technology, UV Litho-ACA)在铁电薄膜表面光刻图案并形成了一系列电极阵列。

作者信息介绍:新加坡大学材料科学与工程学院博士后石澍、博士生苏瀚鑫、浙江大学博士生席昊龙、西北工业大学博士Fatoye Sawyer为文章的共同第一作者,浙江大学田鹤教授、西北工业大学曹腾飞教授为论文的共同通讯作者。

论文链接:https://doi.org/10.1038/s41467-026-69634-3

2026-06-18 13:55