客户成果丨江南大学《Advanced Science》基于底部肖特基接触的超快自驱动WSe2光电探测器

二维材料通过垂直或横向堆叠不同的二维材料所形成的异质结构,可实现整流、光伏转换、载流子分离等功能。然而,这类异质结构的制备通常依赖复杂的转移技术,容易引入界面污染和空隙,从而损害器件的稳定性与可扩展性。相比之下,通过在同一二维材料内局部调控电子特性而构建的同质结策略,具有界面原子级平整、晶格完美匹配和高效载流子输运等显著优势。此外,金属电极制备过程中的高能金属原子轰击二维材料,产生严重的界面损伤及费米能级钉扎现象。因此,研究人员设计一种基于Cr/WSe2/Au的底部电极肖特基光电探测器,通过底部内嵌电极与顶部的Se缓冲层实现低损伤的界面接触,实现超快速光响应和优异的光电性能。

 

江南大学肖少庆教授/南海燕副教授/肖鹏博士在光电探测器领域中取得最新进展,以“Ultrafast Self-Driven WSe2 Photodetectors with Bottom Schottky Contacts”为题发表在中科院一区期刊《Advanced Science》

【研究创新点】

1)本研究采用底部嵌入电极设计,避免光信号遮挡并优化载流子分离路径,从结构层面提升光电转换效率与响应速度。并通过与顶部电极结构器件进行性能比较,证实底部结构的优越性。

2)通过引入Se缓冲层改善金属/WSe2界面质量,降低缺陷态密度,抑制费米能级钉扎,实现低势垒欧姆接触,为提升器件性能奠定基础,通过各种表征与肖特基势垒拟合进行验证。

3)为了验证WSe2 BE-Schottky PD的在实际应用中的性能,对其进行光电性能测试,评估其在光电探测能力。

基于WSe2 BE-Schottky PD器件的结构示意图,并对其结构进行详细的表征。通过高角度环形暗场扫描透射电子显微镜(HAADF-STEM)图像,可以观察到底部内嵌电极与WSe2之间的干净界面。WSe2费米能级为4.8eV,Au的功函数为5.1eV,但是开尔文探针力显微镜(KPFM)测量他们之间电势差为44meV,明显低于理论预期。造成这一差异的主要原因在于在界面引入了 Se 缓冲层,该缓冲层有效改善了金属与WSe2之间的界面质量。该缓冲层降低了界面缺陷态密度,并抑制了费米能级钉扎效应,从而减小了接触处的能带弯曲。

图1 WSe2 BE-Schottky PD器件的结构示意图以及工作原理示意图

研究人员对具有WSe2 BE-Schottky PD器件的电学特性进行了进一步探索。该器件具有典型的肖特基二极管行为,具有正向导通和反向阻断特性,实现了1.07×104的高整流比,1.11的理想因子,以及在不同栅压下都保持出色的整流性能。图2c、2e展示了使用Se缓冲层的Au-Au接触的器件的输出转移特性,证明Se缓冲层沉积后退火去除Se层的工艺可以在WSe2与Au之间形成高质量的欧姆接触。

图2 WSe2 BE-Schottky PD器件的电学性能测试

为了定量研究肖特基势垒(SBH),研究人员测量了在低温条件下不同电极触WSe2器件的转移特性。基于热电子发射理论,从不同栅极电压下的传输曲线中提取值,以构建阿伦尼乌斯图。通过拟合这些曲线的斜率,得到对应于不同栅压的SBH。可以清晰得到WSe2与Au之间SBH约为40meV,与KPFM测试的电势差相吻合,进一步证实他们之间形成欧姆接触。WSe2与Cr之间SBH约为101meV,形成肖特基接触。

图3 Au接触与Cr接触的肖特基势垒拟合

研究人员对WSe2 BE-Schottky PD器件的光电特性进行了进一步探索。Cr 电极作为底部接触电极,不会遮挡入射光信号。图4h为空间分辨扫描光电流显微镜 (SPCM),可以看到光生载流子更靠近靠近底电极的耗尽区,有利于其分离。在暗态条件下以及在 633 nm 激光照射下,瞬态光响应随着光功率密度的增加,光生电流迅速上升并趋于稳定,这是由于光生载流子的数量与入射光子的通量成正比。通过将实验数据 (图 4d) 拟合至幂律关系,我们得到了接近 1 (0.91) 的指数值,表明在五个数量级的光强范围内 (0.05 mW·cm-2 到 497 mW·cm-2),该器件的光电流保持良好的线性关系。线性动态范围 (LDR) 为106 dB。器件的响应度和探测度都在入射光强范围内几乎保持恒定,这种稳定性是典型的光伏效应表现。此外,研究人员测试了存储一年后的器件的光电性能 (图4),表明该器件具有优异的长期稳定性。图4f展示了在没有偏压条件下的上升和下降时间分别达到8.7 µs和3. 8 µs,这是由于自供电状态下存在的强大且固定的内置电场,它有效地将光生载流子驱出耗尽区。研究人员还对比了顶部和底部结构的器件的光谱响应性能,底部结构的响应度明显优于顶部结构,并且顶部电极器件只在正偏压下有响应。图4i比较了本工作WSe2 BE-Schottky PD与多种已报道的无掺杂肖特基探测器的性能指标,进一步突显了WSe2 BE-Schottky PD 器件在实际应用中的显著优势。

图4 WSe2 BE-Schottky PD器件的光学性能测试

该工作中使用TuoTuo Technology的无掩模光刻机完成了所有底部刻蚀与肖特基二极管器件的制备工作。

江南大学集成电路学院硕士研究生李健和王智豪为文章的共同第一作者,肖少庆教授、南海燕副教授和肖鹏博士为论文的共同通讯作者。

 

论文链接:https://doi.org/10.1002/advs.202510373

2025-09-12 13:33