-
首页
-
产品中心
- 光学加工
- 无掩模版紫外光刻机
- 超高精度3D光刻设备
- 光学检测
- 3D显微镜/轮廓仪
- 光电分析设备
- 磁学分析设备
- 加工服务及耗材
- 代加工服务
- 3D光刻材料
- 光刻胶及配套试剂
- 更多产品
- 超低温恒温器
- 激光器
- 光学平台
- 电输运接线盒
- 显微物镜
-
技术百科
-
客户案例
-
新闻中心
-
关于我们
- 公司简介
- 技术支持
- 在线留言
- 联系我们
- 加入我们
-
首页
-
产品中心
- 光学加工
- 无掩模版紫外光刻机
- 超高精度3D光刻设备
- 光学检测
- 3D显微镜/轮廓仪
- 光电分析设备
- 磁学分析设备
- 加工服务及耗材
- 代加工服务
- 3D光刻材料
- 光刻胶及配套试剂
- 更多产品
- 超低温恒温器
- 激光器
- 光学平台
- 电输运接线盒
- 显微物镜
-
技术百科
-
客户案例
-
新闻中心
-
关于我们
- 公司简介
- 技术支持
- 在线留言
- 联系我们
- 加入我们
精准的、高效的测量样品
·跨视野2D量测。即使被测对象特征尺寸超越单个视野范围时,也能快速完成跨视野下的测量任务。
·实时追焦模块。在寻找测量目标的移动过程中,实时追焦模块能够快速根据软件算法确定样品最佳聚焦平面,并持续保持追焦状态。
·无缝全景图像拼接。离散视场智能拼接为一张高分辨率全景图,消除即使目标物分散,也能快速完成跨视野下的测量任务,极大提升检测准确度和效率。
·多焦点景深融合技术。自动沿Z轴进行多层采集,并智能融合成单张全聚焦图像。同时还可生成3D立体图像,用于高度/深度、体积等数据的测量。
·多样品批量检测。支持一次性放置多个样品进行连续自动检测,并兼容不同种类与尺寸的样品,只需在软件中设定待测的行、列与样本数量,设备即可精准执行,无需调整硬件,完美适配研发多批次比料到工业产线快速抽检的多种质检场景。
视频播放失败,请稍后重试
多种观察方式
明场、暗场、DIC、偏光及荧光
| 系统 | MI‑8000 | MI‑12000 | |
|---|---|---|---|
| 光学系统 | Axioscope 光学系统(无限远光学系统) | ||
| 显微镜架构 | 反射光源 | 内置10W白光LED(带光强管理),最大输出1800lm 配备4孔反射器转塔(手动) |
|
| 透射光源 | 内置10W白光LED(带光强管理),最大输出1800lm 配备匀光镜组 |
||
| 对焦机构 | 调焦行程:≥36mm 分辨率:100nm 每转精细行程:12μm 左右两侧带粗对焦和细对焦旋钮,传动比为10:1 |
||
| 目镜筒 | 三目镜筒(倾斜角度:30°)FOV;30°/23;光束分离率100:0/0:100 三目人体工程学镜筒(倾斜角度:20°)FOV;20°/23;光束分离率50:50 |
||
| 目镜 | 10×目镜;瞳距调节:48‑75mm;屈光度调节:±5Dpt | ||
| 物镜 | 蔡司:EC EpiPlan系列,EPN系列,EPA系列物镜 国产:Plan Fluor EPI BD系列物镜 |
||
| 相机 | 靶面尺寸:标配:2/3";选配:1"、2/3" 分辨率:标配:5.0MP(2448×2048);选配:5MP‑12MP 帧率:71.2fps @2448×2048 |
||
| 载物台 | 扫描位移台 8×8" 位移行程:205mm×205mm 位移精度:≤±1μm 透射观察范围:15.5mm×12.5mm |
扫描位移台 12×12" 位移行程:303mm×303mm 位移精度:≤±1μm 透射观察范围:15.5mm×12.5mm |
|
| 载物台插件 | 4‑8"晶圆机械夹具(360°旋转) 8"晶圆负压气吸夹具 玻璃盖板,反射板,定制工装夹具等 |
8‑12"晶圆机械夹具(360°旋转) 12"晶圆负压气吸夹具 玻璃盖板,反射板,定制工装夹具等 |
|
| 主动对焦 | 光源波长:780nm 工作距离:300mm(Max) 静态自动对焦精度:±1/4物镜景深 动态自动对焦精度:±1/2物镜景深 通讯接口:USB3.0 |
||
| 缺陷标记(选配) | 激光波长:532nm 脉冲宽度:约为5ns 最大输出功率:>1W 最小加工尺寸:≤1μm |
||
| 功耗 | 主体额定功耗:100‑120/220‑240V AC,50/60Hz,P max=500W 缺陷标记额定功耗:P max=500W |
||
| 环境 | 仅限室内使用 环境温度:10‑35℃(50‑95℉) 最高相对湿度:31℃(88℉)以下为80%(无凝结) 供电电压波动:±10% |
||
-
飞拍拼接 与 实时追焦:半导体检测自动化的两大“加速引擎”
托托科技 Miracle Inspection 半导体检测显微镜,从底层重新定义了自动化检测流程。通过高速飞拍拼接与实时追焦两大核心技术深度协同,将传统的单个视场观察变为了高精度全视场采集后的复查,传统的手动对焦过程也被主动聚焦代替——在大幅降低人工干预的同时,显著提升检测效率与数据质量,助力半导体实验室与产线迈向真正的智能化检测新阶段。2026年05月25日
-
荧光检测下的半导体世界:让光刻胶残留与有机物污染无所遁形
2026年03月10日
-
探索微观世界:显微镜物镜的核心分类与选择指南
在显微成像的世界里,物镜是决定成像质量的核心“镜头”。自19世纪恩斯特·阿贝为蔡司公司计算出第一个理论显微镜物镜以来,物镜的设计便从一门手艺变为一门精密的科学。如今,为了将不可见变为可见,揭示从微观到纳米的万千世界,科学家们发明出了特性各异的物镜,但其核心的设计逻辑都围绕几个关键维度展开。理解这些核心分类维度,是驾驭复杂显微技术、获得理想图像的关键第一步。2025年12月25日
最大12英寸晶圆全片高精度检测
左图明场,右图暗场