-
首页
-
产品中心
- 光学加工
- 无掩模版紫外光刻机
- 超高精度3D光刻设备
- 光学检测
- 3D显微镜/轮廓仪
- 光电分析设备
- 磁学分析设备
- 加工服务及耗材
- 代加工服务
- 3D光刻材料
- 光刻胶及配套试剂
- 更多产品
- 超低温恒温器
- 激光器
- 光学平台
- 双极性电磁铁电源
- 电输运接线盒
- 显微物镜
-
技术百科
-
客户案例
-
新闻中心
-
关于我们
- 公司简介
- 技术支持
- 在线留言
- 联系我们
-
首页
-
产品中心
- 光学加工
- 无掩模版紫外光刻机
- 超高精度3D光刻设备
- 光学检测
- 3D显微镜/轮廓仪
- 光电分析设备
- 磁学分析设备
- 加工服务及耗材
- 代加工服务
- 3D光刻材料
- 光刻胶及配套试剂
- 更多产品
- 超低温恒温器
- 激光器
- 光学平台
- 双极性电磁铁电源
- 电输运接线盒
- 显微物镜
-
技术百科
-
客户案例
-
新闻中心
-
关于我们
- 公司简介
- 技术支持
- 在线留言
- 联系我们
探索微观世界:显微镜物镜的核心分类与选择指南
在显微成像的世界里,物镜是决定成像质量的核心“镜头”。自19世纪恩斯特·阿贝为蔡司公司计算出第一个理论显微镜物镜以来,物镜的设计便从一门手艺变为一门精密的科学。如今,为了将不可见变为可见,揭示从微观到纳米的万千世界,科学家们发明出了特性各异的物镜,但其核心的设计逻辑都围绕几个关键维度展开。理解这些核心分类维度,是驾驭复杂显微技术、获得理想图像的关键第一步。

托托科技Miracle Inspection半导体检测显微镜(搭配zeiss物镜)照片
一、 按浸没介质分类:打破空气的桎梏
浸没介质,指的是物镜前透镜与样本盖玻片之间填充的介质。这是提升物镜性能最直接、最关键的物理手段之一,其核心目的在于提高数值孔径。
1. 核心原理
数值孔径是决定物镜分辨率和集光能力的根本参数,其公式为NA = n × sinα,其中n是物镜前透镜与样本之间介质的折射率,α是物镜孔径角的一半。在空气中(n≈1),NA的理论上限被限制在1.0以下。通过使用高折射率的浸没介质(如香柏油n≈1.5),可以显著提升NA值,从而获得更高的分辨率和更明亮的图像。
2. 主要类型与特点

油、水和空气在高折射率样品中的光路路径
图片来源:《Methods in Cell Biology Chapter 2-Practical considerations of objective lenses for application in cell biology》
干式物镜:物镜与样本之间为空气。结构简单,使用便捷,适用于观察任何无需浸没介质的样本,尤其是涂片、组织切片等。其NA通常较低(常用于中低倍率)。
油浸物镜:使用专用浸没油(折射率通常为1.515-1.518)作为介质。其折射率与玻璃盖玻片(n≈1.52)非常匹配,能最大限度地消除透镜-盖玻片-样本之间的界面折射,获得最高的NA(可达1.4以上)和分辨率,是观察细胞器、细菌等亚微米结构的首选。
水浸物镜:使用水或专用水溶液(n≈1.33)作为介质。其折射率更接近活细胞或生物组织的内部环境。在观察活体样本或进行生理学实验时,水浸能有效减少因介质折射率不匹配引起的球面像差,特别适用于活细胞成像、脑片研究等需要长工作距离和优异光学性能的场景。
二、 按色差校正能力分类
白光由不同波长的光组成,而玻璃透镜对不同波长光的折射率不同,这导致蓝光、绿光、红光等无法聚焦于同一点,从而在图像边缘产生彩色镶边,此即色差。色差校正水平是衡量物镜光学品质的核心指标,直接决定了多色成像的精准度。

色差原理示意图
1. 核心原理:多波长共焦点
色差校正的核心技术在于使用不同色散特性的光学玻璃(如燧石玻璃、氟化钙晶体)组合成复合透镜组,通过精密的数学设计,让特定波长的光尽可能汇聚到同一个焦平面上。
2. 主要类型

消色差物镜(左)、半复消色差物镜(中)、复消色差物镜(右)结构示意图
消色差物镜(Achromatic):这是最常见的校正等级。它主要对红光和蓝光两种色光进行校正,使其在绿色光(人眼最敏感)的焦面附近重合。它在可见光中心波段成像良好,但在光谱两端(深蓝、深红)仍存在可察觉的色差,适用于常规的明场、相差观察。
半复消色差物镜(Fluorite/Semi-Apochromatic):在消色差的基础上,进一步优化了对蓝紫光的校正,并对二到三种波长进行了更好的共焦校正。其色差校正水平、透光率和图像对比度均优于消色差物镜,是多色荧光成像的性价比之选。
复消色差物镜(Apochromatic):当前最高水平的色差校正。它能在从紫外到近红外的极宽光谱范围内,对不同波长的光进行近乎完美的共焦校正。这使其在多色荧光、尤其是需要精确共定位的研究中不可或缺,同时也是共聚焦、超分辨显微术等高端成像技术的标配。
三、 按像场平坦度分类:追求全视野的清晰
在早期物镜中,由于光学设计的局限,清晰的成像面往往是一个球面而非平面。这意味着当图像中心聚焦清晰时,边缘会变得模糊,这种现象称为场曲。
1. 核心原理:消除场曲
平场校正的目的,就是通过复杂的光学设计,将这个清晰的成像面“拉直”成为一个平面。这样,在整个目镜或相机传感器看到的圆形视场范围内,中心和边缘可以同时保持清晰对焦。

场曲现象(左)和平场校正(右)示意图
2. 主要类型
平场物镜:现代科研级显微镜的标配。其光学设计确保了从中心到边缘的广大区域内都具有均匀的清晰度和分辨率。这对于数码成像、图像分析和定量研究至关重要,因为任何边缘的模糊都会导致信息丢失或测量误差。

20倍多浸没介质平场复消色差物镜结构解析与规格参数示意图
图片来源:https://zeiss-campus.magnet.fsu.edu/articles/basics/objectives.html
现在,平场特性常与其他校正等级结合,形成如Plan Achromat(平场消色差)、Plan Apochromat(平场复消色差)等特殊物镜,这意味着该物镜同时具备了优秀的色差校正和全视场清晰度。
四、 按特殊观察功能分类:赋予光线“魔法”
为了观察透明、未染色的样本,或凸显特定样本结构(如晶体、纤维),显微镜学家发展出了多种特殊的成像对比度技术。而为这些技术专门优化设计的物镜,便是特殊功能物镜。
1. 核心原理:操控光波的属性
这些技术不再仅仅依赖光强的吸收(染色),而是通过巧妙地利用光波的相位、干涉、偏振、荧光等物理属性来生成对比度。
2. 主要类型与原理
相衬物镜:内部装有相位环,与聚光镜的环状光阑配合使用。它将透明样本引起的不可见相位差,转换为肉眼可见的明暗反差,是观察活细胞、微生物最经典的工具。
微分干涉差物镜:通常标有“DIC”。它利用偏振光产生两束有微小相位差的相干光,经样本后发生干涉,能将样本中折射率的微小梯度渲染成具有鲜明三维浮雕感的图像,细节分辨能力极强。
偏光物镜:专为偏光显微镜设计,透镜本身经过特殊处理以减少内部应力,并确保其光学元件不改变入射光的偏振状态。用于观察具有双折射特性的物质,如晶体、纤维、骨骼等。
荧光专用物镜:并非指一种独立的物镜结构,而是强调对高透光率和低自发荧光的极致追求。它们采用特殊镀膜和低荧光玻璃,旨在最大化地透过激发光并收集微弱的荧光信号,同时最小化物镜自身产生的背景噪声。
Miracle Inspection半导体检测显微镜

联系电话:400 856 0670
邮箱:marketing@tuotuot.com
Miracle Inspection半导体检测显微镜整合蔡司ICCS光学系统,并可灵活选配专为工业检测优化的Zeiss EC Epiplan系列物镜。无论是需要长工作距离与增强对比度的常规观察,还是要求复消色差、高数值孔径以获得极致分辨率和色彩保真的精密分析,均可提供匹配方案。
结合明场、暗场、DIC、偏光及荧光等多种观察方式,确保您能以最佳成像效果检测晶圆与半导体器件。设备同时具备自动对焦、景深融合、大图拼接及激光缺陷标记功能,为半导体、面板显示及光伏领域提供全方位、自动化的高端检测方案。
