重大突破丨托托科技无掩模光刻机亮相日本市场，助力东京大学科研突破

近日，托托科技无掩模紫外光刻机正式交付日本东京大学二维材料实验室，并立即投入运行。这标志着托托科技光刻系列产品成功进入日本市场，彰显了托托科技在精密制造领域的技术竞争力。

这台光刻机将为东京大学的半导体及纳米技术研究项目提供强有力的支持，加速用户在高科技领域的科研进展。作为日本顶尖的学术机构之一，东京大学对先进技术的需求为我们提供了一个展示技术实力的绝佳机会。

直写光刻助力全球顶尖科学家探索新材料与新器件

东京大学选用的是托托科技 Litho-ACA系列光刻机，通过数字化方式将图案加载至DMD（数字微镜装置）上，再投影至光刻胶上进行微纳器件加工。该设备除了支持CAD软件精准绘制光刻图形外，还配备了绿光指引的套刻功能，以确保实现高精度的套刻操作。

托托科技的光刻机采用无掩模技术，无需传统的制版步骤，大大提高了实验的灵活性，0.4μm的高精度能够满足各类科研任务的严格要求。此外，托托科技推出了独创的“直接绘图”功能它不仅能提高科研实验的便携性，二维材料领域的研究开辟了全新的可能性。

托托科技的光刻机采用领先的技术创新，具备高精度、高稳定性和强大生产能力，能够满足科研与工业化生产中的严格要求。它不仅能显著提升半导体生产效率，还为纳米技术领域的探索提供了全新的可能性。

此次在日本市场的设备交付，标志着托托科技在全球化战略上取得的重要突破。东京大学的合作信任意味着托托科技的技术得到了全球顶级研究机构的认可，也为我们未来的全球扩展打下了坚实基础。

托托科技将继续推动技术创新，致力于为全球客户提供更高效、更先进的光刻设备，推动全球半导体行业的进步与发展。未来，我们还将与更多国际科研机构和企业携手合作，共同迎接更加辉煌的明天！