【展会回顾】第十四届中国国际纳米技术产业博览会

01 展会介绍

中国最具影响力的纳米技术交流盛会“中国国际纳米技术产业博览会”（CHInano），是中国最具权威、规模最大的纳米技术应用产业国际性大会。大会由峰会(主报告、专题技术分会、应用论坛)、展览、大赛、对接会等部分组成，重点聚焦纳米新材料、微纳制造、第三代半导体、纳米压印、纳米大健康、能源与清洁技术、纳米生物技术等产业领域，打造国际纳米技术产业交流合作平台。

 

经过十余年的发展，纳博会已成为中国影响力最广的纳米技术交流盛会，得到了世界纳米强国的积极参与和广泛认可。

 

由中国微米纳米技术学会、中国国际科学技术合作协会、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）主办，苏州纳米科技发展有限公司承办，每年在苏州工业园区举办。苏州工业园区已获得了国家纳米技术国际创新园、苏州国家纳米技术产业化基地等十个国家级牌子，是世界微纳领域具有代表性的八大产业区域之一，拥有中国最完善的纳米产业生态，建成全球最大纳米技术应用产业综合社区----苏州纳米城。

 

2024年10月23-25日，CHInano 2024第十四届纳博会将继续在苏州国际博览中心举办，期间将邀请20+国内外院士出席并作报告，同期召开10+前沿会议，2场创新创业大赛，展览面积增扩至24000㎡，预计现场参会参展观众27000余人。

 

02 现场直击

2024年，第十四届中国国际纳米技术产业博览会（以下简称“纳博会”）在苏州国际博览中心盛大开幕，吸引了众多科技企业和专业人士的目光。在这一科技盛会中，托托科技作为行业内的佼佼者，受邀参加并展示了其最新研发的创新产品，成为展会的一大亮点。

 

 

在纳博会期间，托托科技的展台前人头攒动，客户络绎不绝，充分体现了公司产品的吸引力和市场认可度。其中，托托科技展出的2024年新产品——3D显微镜.该设备以其先进的光学技术和精密工艺，赢得了众多参观者的青睐。托托科技自主研发的显微镜集成了白光干涉，景深融合，共聚焦三合一测量的3D形貌量测功能，为科研领域提供了一个全新的观察和分析工具。

 

 

除了3D显微镜，托托科技还展出了无掩膜版紫外光刻机，这一设备的展出同样引起了广泛关注。无掩膜版紫外光刻技术摒弃了传统光刻中使用的掩膜版，通过直接在硅片上进行光刻，大幅降低了生产成本并缩短了生产周期。该技术的实现，不仅提高了光刻精度，还为小批量、定制化芯片的生产提供了可能，为半导体产业的创新和发展注入了新的活力。

 

 

此外，托托科技还展示了其超高精度3D光刻设备，该设备采用了先进的光刻技术，能够实现复杂结构的增材制造，为微电子、生物医学等领域提供了新的解决方案。而自动化光学显微镜的展出，更是将托托科技在光学成像领域的实力展现得淋漓尽致。这款显微镜集成了最新的自动化技术，不仅提高了成像的准确性和重复性，还大大降低了操作的复杂性，使得科研人员能够更加专注于研究本身。

 

 

托托科技的展台成为了媒体关注的焦点，多家知名媒体对托托科技的展台进行了现场报道，进一步扩大了公司的影响力。

 

展望未来，我们满怀信心。在明年的苏州纳博会上，托托科技将继续以创新、专业和热情的服务理念，为客户提供更优质的服务，为行业发展贡献新的力量。我们期待与您在明年的纳博会上再次相遇，共同见证托托科技的辉煌成就！

 

03 展品介绍

 

3D显微镜

 

神影 Miracle Vision系列提供了非接触的表面形貌测量，具有极高的可重复性，可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、MEMS器件等广泛精密加工行业的形貌、粗造度长度、曲率、深度、体积、颗粒分布等形貌测量，同样适用于航天、医疗、材料、科学研究领域。可检测各种粗糙度、各种反射率的器件表面，检测器件的表面尺寸从纳米、微米到毫米，都可由同一台设备完成，提供主流的国内外标准下，上百种测量参数，将观测细节可视化、数据化，一次完成。

案例分享

 

半导体领域

在半导体制造过程中，白光干涉显微镜可以用来测量芯片表面的形貌，检测缺陷和杂质，对于确保芯片的质量和性能以及优化工艺参数等方面具有重要意义。

材料科学领域

在材料科学研究中，白光干涉显微镜可用于分析材料表面的微观结构和形貌变化，研究材料的力学性能和表面特性，推动材料科学的进步与发展。

纳米技术领域

在纳米技术研究中，白光干涉显微镜可用于测量纳米结构和纳米材料的表面形貌，探索纳米材料的性质和应用。

光学元件领域

在光学元件制造过程中，白光干涉显微镜可用于测量光学元件表面的形貌和光学特性，为光学系统的设计和优化提供关键数据，确保光学元件的精度和性能。

 

无掩膜版紫外光刻机

 

托托科技无掩膜版紫外光刻机具有 高精度，高稳定性 的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

 

案例分享

 

平面光刻

TUOTUO LOGO

 

IC

 

MEMS器件（a）

 

500 nm掩膜版

 

套刻精度测量标记图

 

MEMS器件（b）

 

灰度光刻

托托科技无掩膜版紫外光刻机支持256阶灰度光刻

菲涅尔透镜

 

TOF扩散器

 

波前调控器件

 

 

超高精度3D光刻产品

 

3D 光刻是增材制造的一种，基于光固化的原理，是一种前沿的制造技术，以传统光刻技术为基石，意在构筑繁杂的、高精度的三维结构器件。该技术借助逐层光固化的工作模式，循序渐进地构建出所需的三维结构。其凸显出显著的特性，囊括了极高的精度以及多层次的结构。3D 光刻的应用范畴宽泛，涵盖微电子、光学、生物医学等众多关键领域。

 

托托科技的 3D 光刻技术源自其 2D 光刻技术，在 2D 光刻领域长期的技术积淀，致使托托科技的 3D 光刻设备具备一出世就站在了一个更高的起点。托托科技3D 光刻技术的持续发展与演进，为相关领域的创新给予了强有力的支撑，促使制造更为复杂和高性能的器件成为可行，也为未来的科技发展开启了广阔的前景。

 

4D驳接打印展示

驳接微针传感器(俯视图及特写画面)

 

PL-3D树脂材料案例

样品名称：鱼骨微流道

整体尺寸：16 mm x 14 mm x 2 mm

孔道：200 μm

材料：PR-TO-A-05

 

样品名称：微弹簧

整体尺寸：4 mm x 4 mm x 6 mm

杆径：55 μm

材料：PR-TO-A-05

 

PL-3D陶瓷材料案例

样品名称：八面体网格

整体尺寸：4 mm x 4.1 mm x 4.3 mm

最小杆径：40 μm

材料：CA03

 

样品名称：陶瓷超材料

整体尺寸：4 mm x 4 mm x 4.3 mm

最小杆径：30 μm

材料：CA03

 

PL-3D SEM电镜图案例

样品名称：晶格超材料

整体尺寸：1.2 mm x 1.2 mm x 1.2 mm

杆径：11.8 μm

材料：PR-TO-A-05

 

样品名称：微柱阵列

整体尺寸：15 mm x 15 mm x 1.1 mm

微柱直径：203 μm

材料：FR-PB-C-01

 

04 关于托托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线：

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

 

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

 

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。