【展会回顾】CPS2024

01 展会介绍

中国物理学会2024秋季学术会议（以下简称秋季会议，英文名称为CPS Fall Meeting）由中国物理学会主办，自1999年起举办至今。秋季会议旨在加强国内外物理学界的学术交流，提高学术水平，推动物理学科的全面发展和提升人才培养质量。经过20多年的发展，秋季会议已从最初的200人规模壮大至今的6000多人规模，成为中国物理学界规模最大、综合性最强的品牌学术盛会。

 

中国物理学会2024秋季学术会议由海南大学承办，于2024年10月10日至13日在海南国际会展中心举行（地址：海口市秀英区滨海大道258号）。本届秋季会议通过大会特邀报告、分会邀请报告、口头报告和张贴报告等形式进行学术交流，同时围绕物理学相关专业领域设立多个专题分会。

 

02 现场直击

 

在2024年的CPS秋季学术会议上，托托科技（苏州）有限公司展示了其在精密光学设备领域的最新成果。作为一家光学设备制造商，托托科技在海南国际会展中心的展位上，展出了包括磁光克尔显微镜综合测试设备、3D显微镜、无掩膜版紫外光刻机等在内的一系列高科技产品。

 

 

托托科技的3D显微镜以其先进的光学技术和精密工艺，集成了白光干涉、景深融合、共聚焦三合一测量的3D形貌量测功能，为科研领域提供了全新的观察和分析工具。无掩膜版紫外光刻机则以其高精度和高稳定性，支持256阶灰度光刻，为微纳米加工提供了强有力的支持。此外，磁光克尔显微镜综合测试设备广泛应用于磁学和自旋电子学领域，是研究磁性材料和自旋电子器件的重要工具。

 

 

展望未来，托托科技将继续秉承创新、专业、热情的理念，为广大客户提供更加优质的服务，并为行业的发展贡献更多的力量。我们期待着与您在下一届展会再次相聚，共同见证托托科技的辉煌未来。

 

03 展品介绍

磁光克尔显微镜综合测试设备

 

磁光克尔显微镜综合测试设备，显微磁畴空间分辨率优于0.5微米，磁光克尔角分辨率优于0.1毫度，支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式。在追踪平面内数百万点的磁畴动态信息的同时，可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应，磁滞回线，磁畴翻转或扩展等观测。

 

磁光克尔显微镜综合测试设备产品亮点

 

智能照明系统

● 光源稳定且均匀
● 具备极向，纵向和横向测试能力
● 高亮度（4倍于市场上产品）

 

多功能显微系统

● 线偏振光和圆偏振光
● 提高相差畸变矫正
● 电动显微聚焦

 

矢量磁场系统

● 垂直磁场模式可达1.4T @1cm 间隙
● 面内磁场可达1.0T @1cm，0.36T @4cm 间隙适配低温恒温器；面内矢量磁场模式可达0.35T
● 面垂直磁场和面内磁场可快速切换

 

高端相机

● 超动态范围30000：1（十倍提升）

● 高量子效率>80%（1.2倍提升）

● 高速摄像和高分辨率

 

直流 / 交流探针

● 与外接电表匹配（6221，2400等）

● 配合高频电表
● 配合引线键合器件

 

高端光学平台

● 气浮隔振

●电子主动反馈隔振

 

案例分享

梯度自旋流实现无场翻转

(a) 在外磁场HZ=0 Oe，HX=0 Oe下，脉冲电流实现磁畴无场翻转及对应的翻转回线。1，2，3，…6表示负向的脉冲电流不断增加直至磁畴翻转图片;

(b)a，b，c…f表示正向电流不断增加直至磁畴翻转。其中顶层Pt厚度为2.5 nm。

 

DMI有效场以及磁畴速度测试

(a)DMI有效场(HDMI) 测量装置。

(b)垂直各向异性样品在面内磁场作用下，发生各向异性翻转。

(c)不同覆盖层的异质结样品，其磁畴运动速度随面内辅助磁场的变化

(d)DMI有效场导致磁畴翻转过程中出现倾斜角且DMI越大倾斜角越大。

 

 

多模态光电显微镜

 

烛龙系列中的多模态光电显微镜是一台具有超高稳定性的多功能光电综合测试和微加工系统，可根据客户需求提供多种灵活可选的配置和方案。系统集成了电动运动台和振镜的扫描方式，可实现瞬态和稳态下的光电流测试和扫描成像，荧光寿命测试和扫描成像，拉曼光谱测试，二次谐波测试，荧光光谱采集，发射和吸收等光谱端的测试和扫描成像。除此之外，整套系统可搭配飞秒脉冲激光器和我司自主研发的低温系统进行相关的变温测试以及器件表面的微加工和缺陷标记。多模态光电显微镜将为众多新质生产力领域提供强大的支持，助力国内相关领域的发展和科技创新。

 

烛龙系列多模态光电显微镜产品亮点

超宽的多波长激发光源

全反射式的收集光路

支持激光微区加工

支持荧光、拉曼、光电流等多种测量模式

支持样品移动式扫描及振镜扫描等多种解决方案

系统高度自动化

 

案例分享

 

太阳能电池的表征和测试

 

二维材料的表征和测试

 

有机发光材料和无机发光材料的表征和测试

 

材料微加工和激光改性

 

3D显微镜

 

神影 Miracle Vision系列提供了非接触的表面形貌测量，具有极高的可重复性，可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、MEMS器件等广泛精密加工行业的形貌、粗造度长度、曲率、深度、体积、颗粒分布等形貌测量，同样适用于航天、医疗、材料、科学研究领域。可检测各种粗糙度、各种反射率的器件表面，检测器件的表面尺寸从纳米、微米到毫米，都可由同一台设备完成，提供主流的国内外标准下，上百种测量参数，将观测细节可视化、数据化，一次完成。

 

案例分享

 

半导体领域

在半导体制造过程中，白光干涉显微镜可以用来测量芯片表面的形貌，检测缺陷和杂质，对于确保芯片的质量和性能以及优化工艺参数等方面具有重要意义。

 

材料科学领域

在材料科学研究中，白光干涉显微镜可用于分析材料表面的微观结构和形貌变化，研究材料的力学性能和表面特性，推动材料科学的进步与发展。

 

纳米技术领域

在纳米技术研究中，白光干涉显微镜可用于测量纳米结构和纳米材料的表面形貌，探索纳米材料的性质和应用。

 

光学元件领域

在光学元件制造过程中，白光干涉显微镜可用于测量光学元件表面的形貌和光学特性，为光学系统的设计和优化提供关键数据，确保光学元件的精度和性能。

 

无掩膜版紫外光刻机

 

托托科技无掩膜版紫外光刻机具有 高精度，高稳定性 的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

 

案例分享

 

平面光刻

TUOTUO LOGO

 

IC

 

MEMS器件（a）

 

500 nm掩膜版

 

套刻精度测量标记图

 

MEMS器件（b）

 

灰度光刻

托托科技无掩膜版紫外光刻机支持256阶灰度光刻

菲涅尔透镜

 

TOF扩散器

 

波前调控器件

 

04 关于托托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线：

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

 

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。