【展会回顾】中国微米纳米技术学会第二十六届学术年会暨第十五届国际会议

01 展会介绍

中国微米纳米技术学会学术年会暨国际会议，是我国微米纳米领域的年度盛会。迄今为止，成功举办国内会议二十四届、国际会议十三届，旨在为国内外微纳科技工作者提供一个国际化交流平台。

 

1994年在清华大学召开第一届全国纳米技术学术会议，其后更名为全国微米纳米技术学术会议，并于1995年、1996年、1998年、2000年、2002年分别召开了第二至第六届全国微米纳米技术学术会议。2005年中国微米纳米技术学会成立，召开中国微米纳米技术学会第七届学术年会，2008年召开中国微米纳米技术学会第十届学术年会暨第一届国际会议，并在此次会议上决定隔年召开一次国际会议。2012年召开中国微米纳米技术学会第十四届学术年会暨第三届国际会议，并决定每年的学术年会都开为国际会议。

 

2024年9月20-23日，中国微米纳米技术学会第二十六届学术年会暨第十五届国际会议（简称CSMNT2024）在山西省太原市举办。本届大会由中国微米纳米技术学会主办，中北大学承办，清华大学精密仪器系、省部共建动态测试技术国家重点实验室、机电动态控制重点实验室联合协办。大会以“科技赋能新晋阳•微纳赓续新篇章”为主题，为国内外微米纳米科技工作者搭建桥梁、构筑平台，共同促进不同学科的交叉融合，引领微米纳米及相关领域的创新发展。

 

02 现场直击

 

2024年9月20日至23日，中国微米纳米技术学会学术年会暨国际会议在山西太原隆重召开。托托科技作为受邀展商，展示了2024年的重磅新品——3D显微镜，同时还展出了无掩膜版紫外光刻机以及超高精度3D光刻系统。

 

 

在这次大会上，托托科技展出的3D显微镜以其非接触的表面形貌测量和极高的可重复性，可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、MEMS器件等精密加工行业的形貌、粗糙度测量。无掩膜版紫外光刻机则以其高精度、高稳定性的特点，支持256阶灰度光刻，为微纳加工提供了灵活的光刻方案。超高精度3D光刻系统以其卓越的性能，为科研领域提供了全方位的技术支持，满足了客户对高精度加工的迫切需求。托托科技的展位吸引了众多参观者，公司团队以饱满的热情和专业的知识，详细解答了参观者的各种问题，展示了产品的技术优势和应用前景。

 

 

通过这次展会，托托科技不仅展示了自身的技术实力，也与行业内的专家学者进行了深入的交流和探讨，为公司的未来发展提供了宝贵的经验和启示。

 

03 展品介绍

3D显微镜

 

神影 Miracle Vision系列提供了非接触的表面形貌测量，具有极高的可重复性，可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、MEMS器件等广泛精密加工行业的形貌、粗造度长度、曲率、深度、体积、颗粒分布等形貌测量，同样适用于航天、医疗、材料、科学研究领域。可检测各种粗糙度、各种反射率的器件表面，检测器件的表面尺寸从纳米、微米到毫米，都可由同一台设备完成，提供主流的国内外标准下，上百种测量参数，将观测细节可视化、数据化，一次完成。

 

案例分享

 

半导体领域

在半导体制造过程中，白光干涉显微镜可以用来测量芯片表面的形貌，检测缺陷和杂质，对于确保芯片的质量和性能以及优化工艺参数等方面具有重要意义。

材料科学领域

在材料科学研究中，白光干涉显微镜可用于分析材料表面的微观结构和形貌变化，研究材料的力学性能和表面特性，推动材料科学的进步与发展。

纳米技术领域

在纳米技术研究中，白光干涉显微镜可用于测量纳米结构和纳米材料的表面形貌，探索纳米材料的性质和应用。

光学元件领域

在光学元件制造过程中，白光干涉显微镜可用于测量光学元件表面的形貌和光学特性，为光学系统的设计和优化提供关键数据，确保光学元件的精度和性能。

 

 

无掩膜版紫外光刻机

 

托托科技无掩膜版紫外光刻机具有高精度，高稳定性的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

 

案例分享

 

平面光刻

TUOTUO LOGO

IC

MEMS器件（a）

500 nm掩膜版

套刻精度测量标记图

MEMS器件（b）

 

灰度光刻

托托科技无掩膜版紫外光刻机支持256阶灰度光刻

菲涅尔透镜

TOF扩散器

波前调控器件

 

 

超高精度3D光刻产品

 

 

3D 光刻是增材制造的一种，基于光固化的原理，是一种前沿的制造技术，以传统光刻技术为基石，意在构筑繁杂的、高精度的三维结构器件。该技术借助逐层光固化的工作模式，循序渐进地构建出所需的三维结构。其凸显出显著的特性，囊括了极高的精度以及多层次的结构。3D 光刻的应用范畴宽泛，涵盖微电子、光学、生物医学等众多关键领域。

 

托托科技的 3D 光刻技术源自其 2D 光刻技术，在 2D 光刻领域长期的技术积淀，致使托托科技的 3D 光刻设备具备一出世就站在了一个更高的起点。托托科技3D 光刻技术的持续发展与演进，为相关领域的创新给予了强有力的支撑，促使制造更为复杂和高性能的器件成为可行，也为未来的科技发展开启了广阔的前景。

 

案例分享

4D驳接打印展示

驳接微针传感器(俯视图及特写画面)

 

PL-3D树脂材料案例

样品名称：鱼骨微流道

整体尺寸：16 mm x 14 mm x 2 mm

孔道：200 μm

材料：PR-TO-A-05

 

样品名称：微弹簧

整体尺寸：4 mm x 4 mm x 6 mm

杆径：55 μm

材料：PR-TO-A-05

 

PL-3D陶瓷材料案例

样品名称：八面体网格

整体尺寸：4 mm x 4.1 mm x 4.3 mm

最小杆径：40 μm

材料：CA03

 

样品名称：陶瓷超材料

整体尺寸：4 mm x 4 mm x 4.3 mm

最小杆径：30 μm

材料：CA03

 

PL-3D SEM电镜图案例

样品名称：晶格超材料

整体尺寸：1.2 mm x 1.2 mm x 1.2 mm

杆径：11.8 μm

材料：PR-TO-A-05

 

样品名称：微柱阵列

整体尺寸：15 mm x 15 mm x 1.1 mm

微柱直径：203 μm

材料：FR-PB-C-01

 

04 关于托托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线：

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

 

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

 

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。