【展会回顾】纳米材料与器件创新发展大会2024

01展会介绍

中国材料研究学会纳米材料与器件分会成立于 2013 年,首任理事长为江雷院士,2021  6 月分会换届,推选张锦院士担任理事长,江雷院士、王中林院士担任名誉理事长。分会成立以来,先后举办了三届全国纳米科技前沿论坛系列会议,在国内外纳米材料与器件领域产生了积极而广泛的影响。为适应新形势、促进新质生产力,经研究从 2024 年起,系列会议更名为纳米材料与器件创新发展大会(年份)。本次大会由中国材料研究学会纳米材料与器件分会主办、温州大学承办,将于 2024  09  20-23 日在浙江温州举行。大会面向国家重大战略需求,聚焦纳米科技前沿,培育新质生产力。大会将邀请纳米科技领域杰出学者、青年才俊、企业家代表等,就纳米科学与工程领域的热点问题进行探讨、交流,促进科技创新和产业创新深度对接,推动纳米产业高端化、智能化、绿色化、融合化发展。

 

本次会议为期四天,将围绕纳米化学、纳米材料、纳米能源、纳米器件、纳米表征、纳米物理、纳米生物与医药、纳米工程与应用、纳米材料设计与计算、纳米学科与人才培养等议题展开讨论。大会的主要形式有:主题论坛、平行论坛、海报展示、企业展览等活动。

 

02现场直击

 

2024920日至23日,中国材料研究学会纳米材料与器件分会在浙江温州成功举办了“2024纳米材料与器件创新发展大会。托托科技受邀参加了此次盛会,并展出了一系列高科技产品。

 

在这次大会上,托托科技展示了2024年的重磅新品——3D显微镜,该设备以其先进的光学技术和精密工艺,集成了白光干涉,景深融合,共聚焦三合一测量的3D形貌量测功能,为科研领域提供了一个全新的观察和分析工具。

 

 

除了3D显微镜,托托科技还展出了无掩膜版紫外光刻机、磁光克尔显微镜、多模态光电显微镜等设备。这些设备以其高精度和高稳定性的特点,为微纳米加工和检测提供了强有力的支持。

 

托托科技的展位吸引了众多参观者,公司的专业团队以饱满的热情和专业的知识,详细解答了参观者的各种问题,展示了公司产品的技术优势和应用前景。通过这次展会,托托科技不仅展示了自身的技术实力,也与行业内的专家学者进行了深入的交流和探讨,为公司的未来发展提供了宝贵的经验和启示。

 

03 展品介绍

多模态光电显微镜

烛龙TM系列中的多模态光电显微镜是一台具有超高稳定性的多功能光电综合测试和微加工系统,可根据客户需求提供多种灵活可选的配置和方案。系统集成了电动运动台和振镜的扫描方式,可实现瞬态和稳态下的光电流测试和扫描成像,荧光寿命测试和扫描成像,拉曼光谱测试,二次谐波测试,荧光光谱采集,发射和吸收等光谱端的测试和扫描成像。除此之外,整套系统可搭配飞秒脉冲激光器和我司自主研发的低温系统进行相关的变温测试以及器件表面的微加工和缺陷标记。多模态光电显微镜将为众多新质生产力领域提供强大的支持,助力国内相关领域的发展和科技创新。

 

烛龙TM系列多模态光电显微镜产品亮点

超宽的多波长激发光源

全反射式的收集光路

支持激光微区加工

支持荧光、拉曼、光电流等多种测量模式

支持样品移动式扫描及振镜扫描等多种解决方案

系统高度自动化

 

案例分享

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二维材料的表征和测试

二维材料具有超高的载流子迁移率,通过改变厚度以及不同元素之间的掺杂,可以有效地调控其能带结构,从而展现出众多优异的光电特性。例如窄带隙二维材料由于具有栅极可调控的载流子类型以及对红外光谱的高灵敏响应,因此在红外光电探测器中表现出了巨大的应用潜力。所以,如何对二维材料进行相关特性的表征,通过光致发光扫描的方式,可以在很高的空间分辨率下,实现不同异质结构下更高的荧光量子效率和可调谐光谱共振,来快速实现对二维材料器件的非接触式表征。
可实现在宽波段激发光源下对待测材料的响应特性研究并获得其白光反射谱

可同时实现对待测材料光电流信号和光致发光光谱信号的扫描

可实现对二维材料二次谐波信号的表征

可在不同偏振态下实现对二维材料拉曼特性的扫描和表征 - 可以在极高的扫描空间分辨率下实现对亚微米级样品的光电扫描

 

磁光克尔显微镜综合测试设备

 

磁光克尔显微镜综合测试设备,显微磁畴空间分辨率优于0.5微米,磁光克尔角分辨率优于0.1毫度,支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式。在追踪平面内数百万点的磁畴动态信息的同时,可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应,磁滞回线,磁畴翻转或扩展等观测。

 

磁光克尔显微镜综合测试设备产品亮点

智能照明系统

光源稳定且均匀
具备极向,纵向和横向测试能力
高亮度(4倍于市场上产品)

 

多功能显微系统

线偏振光和圆偏振光
提高相差畸变矫正
电动显微聚焦

 

矢量磁场系统

垂直磁场模式可达1.4T @1cm 间隙
面内磁场可达1.0T @1cm0.36T @4cm 间隙适配低温恒温器;面内矢量磁场模式可达0.35T
面垂直磁场和面内磁场可快速切换

 

高端相机

超动态范围300001(十倍提升)

高量子效率>80%1.2倍提升)

高速摄像和高分辨率

 

直流 / 交流探针

与外接电表匹配(62212400等)

配合高频电表
配合引线键合器件

 

高端光学平台

● 气浮隔振

电子主动反馈隔振

 

案例分享

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梯度自旋流实现无场翻转

(a) 在外磁场HZ=0 OeHX=0 Oe下,脉冲电流实现磁畴无场翻转及对应的翻转回线。123…6表示负向的脉冲电流不断增加直至磁畴翻转图片;

(b) abc…f表示正向电流不断增加直至磁畴翻转。其中顶层Pt厚度为2.5 nm

 

 

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DMI有效场以及磁畴速度测试

(a) DMI有效场(HDMI) 测量装置。

(b) 垂直各向异性样品在面内磁场作用下,发生各向异性翻转。

(c) 不同覆盖层的异质结样品,其磁畴运动速度随面内辅助磁场的变化

(d) DMI有效场导致磁畴翻转过程中出现倾斜角且DMI越大倾斜角越大。

3D显微镜

 

神影 Miracle Vision系列提供了非接触的表面形貌测量,具有极高的可重复性,可广泛应用于半导体芯片、光学透镜、金属表面、汽车涂层、MEMS器件等广泛精密加工行业的形貌、粗造度长度、曲率、深度、体积、颗粒分布等形貌测量,同样适用于航天、医疗、材料、科学研究领域。可检测各种粗糙度、各种反射率的器件表面,检测器件的表面尺寸从纳米、微米到毫米,都可由同一台设备完成,提供主流的国内外标准下,上百种测量参数,将观测细节可视化、数据化,一次完成。

 

案例分享

 

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半导体领域

在半导体制造过程中,白光干涉显微镜可以用来测量芯片表面的形貌,检测缺陷和杂质,对于确保芯片的质量和性能以及优化工艺参数等方面具有重要意义。

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材料科学领域

在材料科学研究中,白光干涉显微镜可用于分析材料表面的微观结构和形貌变化,研究材料的力学性能和表面特性,推动材料科学的进步与发展。

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纳米技术领域

在纳米技术研究中,白光干涉显微镜可用于测量纳米结构和纳米材料的表面形貌,探索纳米材料的性质和应用。

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光学元件领域

在光学元件制造过程中,白光干涉显微镜可用于测量光学元件表面的形貌和光学特性,为光学系统的设计和优化提供关键数据,确保光学元件的精度和性能。

 

无掩膜版紫外光刻机

托托科技无掩膜版紫外光刻机具有 高精度,高稳定性 的特点。光刻图案设计灵活,能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

案例分享

 

平面光刻

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TUOTUO LOGO

 

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IC

 

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MEMS器件(a

 

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500 nm掩膜版

 

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套刻精度测量标记图

 

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MEMS器件(b

 

灰度光刻

托托科技无掩膜版紫外光刻机支持256阶灰度光刻

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菲涅尔透镜

 

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TOF扩散器

 

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波前调控器件

 

04 关于托托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线:

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

 

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业,致力于给客户提供全方位的技术支持,以高端技术和细致设计造就卓越品质,以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

 

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo,拥有中国及新加坡两个研发中心,其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体,TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。

 

2024-09-30 09:26