【展会回顾】2024第八届全国磁性材料与器件大会

Part.01展 会 介 绍

“全国磁性材料与器件大会”是磁性材料与器件领域内卓有成效的学术交流平台和新成果发布渠道，每年4月份举办，至今已成功举办七届(2015杭州、2017泰安、2018杭州、2019南京、2021成都2022杭州、2023南京)，极大地推动了我国磁性材料与器件的科学研究和产业发展。

会议以“加强交流、合作创新”为宗旨，旨在针对当前复杂的经济和市场环境，汇聚国内磁学与磁性材料领域专家学者、企事业单位负责人，探讨当前磁性材料行业发展形势与趋势，价格与竞争，交流技术信息和学术思想、把握技术趋势和产业需求、推动磁性材料领域的协同创新、促进磁性材料产业的转型升级。

经组委会研究决定，“2024第八届全国磁性材料与器件大会”于2024年4月12-14日在杭州市召开。

大会热烈欢迎国内外磁性材料与器件以及应用领域学者、科研人员、企业家及投资界朋友踊跃参加。同时，本次会议也将为广大研究生、本科生提供学习和交流的平台。

Part.02现 场 直 击

本届展会，托托科技凭借优质的产品，专业的知识，吸引了众多潜在客户、合作伙伴的关注。通过本届展会，我们也更深入地了解了磁性材料与器件行业的最新发展动态，明确了我们的发展方向。

这次展会不仅为我们提供了一个与业内人士交流的平台，更是一个展示我们产品、技术实力的舞台。通过展示我们的产品，让更多的人了解托托的技术实力，扩大了业务洽谈范围。同时，我们也在和各位专家学者的沟通中得到了宝贵的建议，这对于我们企业的发展具有非常重要的意义。

展望未来，托托将继续秉持创新、进取的精神，不断研发出更先进、功能更全面的产品，以满足市场的需求，也将进一步加强与合作伙伴的沟通与合作，逐步完善、成熟化无掩膜紫外光刻机及磁光克尔显微系统，为客户提供更多性能优良的设备来加工及检测磁性材料与器件。

Part.03产 品 展 示

托托科技（苏州）有限公司是一家快速成长的技术驱动型企业，是专注于科研市场的光学设备制造厂商。逐渐形成了集设计、研发、制造销售及客户咨询服务为一体的高科技企业。我们致力于给客户提供全方位的技术支持同时根据客户要求提供准确且可靠的光机电一体化集成设备。我们携磁光克尔显微镜、无掩膜光刻机亮相第八届全国磁性材料与器件大会。

磁光克尔显微镜

显微磁畴空间分辨率优于0.5微米；

磁光克尔角分辨率优于0.1毫度；

支持极向克尔、纵向克尔、横向克尔三种磁光克尔效应测量方式；

追踪平面内数百万点的磁畴动态信息；

可搭配探针台实现电学、磁学、光学同步观测。

广泛应用于磁学和自旋电子学领域中磁光克尔效应，磁滞回线，磁畴翻转或扩展等观测。

案例分享

梯度自旋流实现无场翻转

（a）在外磁场Hz= 0 Oe，Hx=0 Oe下，脉冲电流实现磁畴无场翻转及对应的翻转回线。1，2，3，……6表示负向的脉冲电流不断增加直至磁畴翻转图片；

（b）a，b，c……f表示正向电流不断增加直至磁畴翻转。其中顶层Pt厚度为2.5 nm。

梯度自旋流累积

（a）Pt (up to 3.2 nm)/Co (0.6 nm)/Pt (1.5 nm) 楔形样品构建梯度自旋流积累，实现无场翻转；

（b）和 （d），表示不同电流密度下，磁畴成核过程。(I=10 mA，Hx= 0 Oe)/( I=22 mA，Hx= 0 Oe) Hall Bar磁畴成核过程。测试电流小时，薄膜样品磁畴在十字中心位置成核（紫色圆圈）；当测试电流逐渐变大，磁畴在十字臂一侧成核（紫色方形）；

（c） 和 （e） 表示不同电流密度下，磁滞回线。(I=10 mA，Hx= 0 Oe)/( I=22 mA，Hx= 0 Oe)下的磁滞回线。大电流密度有助于磁场驱动磁畴翻转。

无掩膜光刻机

托托科技无掩膜光刻机具有高精度，高稳定性的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

案例分享

干涉条纹

三角阵列

多级衍射透镜

50μm方形

Part.04关 于 托 托

托托科技是一家是专注于光学显微加工及检测的光学设备制造厂商。目前公司拥有五个核心产品线：

(A)无掩膜版光刻设备

(B)磁学产品

(C)多模态光电显微镜

(D)超高精度3D光刻产品

(E)3D显微镜

已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供全方位的技术支持，以高端技术和细致设计造就卓越品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。

公司旗下产品的品牌名称为TuoTuo，拥有中国及新加坡两个研发中心，其中托托科技(苏州)是中国区业务的运营主体，TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是国际业务的运营主体。