【展会回顾】第九届全国表面分析科学与技术应用学术会议

01会议介绍

为积极推动表面分析科学及其应用技术的发展，促进表面分析技术与其它学科的融合，加强同行之间交流与合作，建立表面分析的交流平台，促进表面分析研究队伍的壮大，由国家大型科学仪器中心共享平台-北京电子能谱中心、中国分析测试协会高校分析测试分会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京理化分析测试技术学会表面分析专业委员会主办，新加坡国立大学、天津大学、福州大学、闽都创新实验室 (中国福建光电信息科学与技术创新实验室)、天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室、天津市先进碳与电化学储能重点实验室和福州昆仑商务会展服务有限公司承办，天津大学-新加坡国立大学福州联合学院、苏州工业园区新国大研究院、南昌大学、上海师范大学、深圳大学协办的“第九届全国表面分析科学与技术应用学术会议”将于2023年11月17日-20日在福建省西湖宾馆福建会堂举行。

本次会议包括10个分会：表界面分析与能源催化，表界面与二维材料， 表界面与有机半导体，表界面与储能技术，表界面与热催化，表界面与光电催化，表界面与同步辐射技术，以及三个小型专题会议。并包括5个大会报告、105个邀请报告、若干普通报告及墙报展示。期望各位表面科学及相关领域的专家、学者及其他参会者积极投稿，并借此机会进行广泛交流，探讨表面分析技术与其它学科的共同发展，进一步拓展表面科学技术的应用领域。

02 展品介绍

托托科技（苏州）有限公司是一家快速成长的技术驱动型企业，专注于光学显微加工及光学显微检测的光学仪器设备制造。

在此次学术会议上托托科技为大家带来了两套自主研发的设备: 无掩膜版紫外光刻机和光电流光谱测试系统。这两套设备涵盖了显微光学加工及光学检测功能，在性能上可以满足绝大多数科研需求。

无掩膜版紫外光刻机，通过数字化方式，将图案加载于DMD (数字微镜器件)上，光刻图案设计灵活，具有高稳定性、高分辨率和高套刻精度等众多优点，为微纳器件的结构设计提供更多的可能性。

光电流光谱测试系统，通过电动化方案，将紫外-可见-近红外-中红外光源（261nm-10μm）集成到系统中，实现低温磁场环境下对亚微米级样品的超宽光谱激发。在光电光谱多维度测试软件的加持下，能够将光电领域主流电学仪表、光谱仪、TCSPC进行控制且协同作用，从而对光电材料器件的光电流Mapping成像、伏安特性曲线、转移曲线、输出曲线、交变电流、磁电阻、霍尔信号、荧光光谱Mapping成像、荧光寿命成像等进行快速精确测试。该系统具有高稳定性、高分辨率和高兼容性等优点，为微纳器件的光电性能表征提供更多的可能性。

03 实况传达

托托科技深感荣幸能够参加本次学术会议，其展出的无掩膜光刻机和光电流光谱测试系统为科研学者提供了一种全新的实验方法。通过与各位专家学者的深入交流，托托科技在未来的产品研发和升级中得到了更多的启示和方向。

我们希望通过本次会议，与学术界分享托托科技的最新研发成果，展示公司的雄厚技术实力，并让大家更深入地了解我们的产品。