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| 产品图片 |
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| 型号 | PL3D-02 | PL3D-05 | PL3D-10 | PL3D-20 |
| 规格 | 桌面级(单镜头) | 桌面级(单镜头) | 桌面级(单镜头) | 桌面级(单镜头) |
| 光学精度 | 2 μm | 5 μm | 10 μm | 20 μm |
| 加工公差 | ±5 μm | ±10 μm | ±25 μm | ±50 μm |
| 加工尺寸 | 30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm |
30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm |
30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm |
51 mm × 32 mm × 50 mm |
| 最小打印层厚 | 3 μm | 3 μm | 5 μm | 5 μm |
| 单投影尺寸(mm) | 3.84 × 2.16 | 9.60 × 5.40 | 19 × 10 | 51 × 32 |
| 自动除泡装置 | 支持 | |||
| 材料 | 树脂/陶瓷 | |||
| 数据格式 | STL | |||
| 设备主体尺寸(mm) | 700 × 860 × 1650 | 700 × 860 × 1650 | 700 × 860 × 1650 | 700 × 860 × 1650 |
| 设备重量 | 360 kg | 360 kg | 300 kg | 300 kg |
| 产品图片 |
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| 型号 | PL3D-PD | PL3D-PT | PL3D-Pro | |||||
| 规格 | 立式(双镜头) | 立式(三镜头) | 立式(三镜头) | |||||
| 光学精度 | 2 μm | 5 μm | 1 μm | 2 μm | 5 μm | 1 μm | 2 μm | 10 μm |
| 加工公差 | ±5 μm | ±10 μm | ±3 μm | ±5 μm | ±10 μm | ±3 μm | ±5 μm | ±25 μm |
| 加工尺寸 |
30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm |
30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm |
30 mm × 30 mm × 50 mm 50 mm × 50 mm × 50 mm 100 mm × 100 mm × 50 mm |
|||||
| 最小打印层厚 | 2.5 μm | 2.5 μm | 2.5 μm | |||||
| 单投影尺寸 | 3.84 × 2.16 | 9.60 × 5.40 | 1.92 × 1.08 | 3.84 × 2.16 | 9.60 × 5.40 | 2.56 × 1.60 | 5.12 × 3.20 | 25.6 × 16.0 |
| 自动调平 | 不支持 | 不支持 | 支持 | |||||
| 自动除泡装置 | 支持 | |||||||
| 4D驳接 | 支持 | |||||||
| 材料 | 树脂/陶瓷 | |||||||
| 多材料驳接精度 |
±15 μm @ 5 μm ±8 μm @ 2 μm |
±15 μm @ 5 μm ±8 μm @ 2 μm ±5 μm @ 1 μm |
±25 μm @ 10 μm ±8 μm @ 2 μm ±5 μm @ 1 μm |
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| 设备主体尺寸(mm) | 1000 × 850 × 1950 | 1000 × 850 × 1950 | 1000 × 850 × 1950 | |||||
| 设备重量 | 600 kg | 600 kg | 620 kg | |||||
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攻克复杂三维形貌测量难题——托托科技·光学轮廓仪高精度三维形貌测量功能
复杂三维形貌测量,是半导体、MEMS、精密机械制造领域长期面临的检测难点。晶圆刻蚀沟槽、TSV深孔、芯片阵列及机械磨损缺陷等结构,因开口窄、纵深大,普通光学设备仅能获取表层信息,底层与侧壁信号严重缺失,导致深度、体积、深宽比数据失真。针对上述痛点,托托科技神影MV-7000光学轮廓仪搭载高性能三维形貌测量模块,并在此基础上优化了扫描效率与调平算法,专为复杂立体结构完整三维测量而设计,为复杂形貌检测建立全新标准。2026年07月13日
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直写光刻,为光通信芯片研发按下“加速键”
托托科技无掩模版紫外光刻机,基于DMD数字光刻与灰度/矢量双模式,从原型打样到小批量试产,一机覆盖,让光通信芯片研发真正告别“等版焦虑”。2026年06月15日
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打破单视场局限|托托科技 三维光学轮廓仪 三维拼接功能全解析
神影系列三维光学轮廓仪将大尺寸样品划分为多个连续的高分辨率小视场,系统依托高精度电动XY位移平台和±3°电动智能调平俯仰台,配合高倍物镜逐个拍摄每个区域的完整三维轮廓数据;再通过智能特征匹配算法,将所有独立的三维数据块无缝融合,最终生成一个覆盖样品全貌、同时保留纳米级分辨率的完整三维模型。2026年05月29日