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  • UV Litho-Y无掩膜光刻机
    桌面型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1.5um，支持样品尺寸从3mm×3mm到50mm×50mm
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  • UV Litho-ACA无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm。
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  • UV Litho-ACA Pro无掩膜光刻机
    科研型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.6um，支持样品尺寸从3mm×3mm到150mm×150mm，配激光光源和电子主动隔振。
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  • UV Litho-S无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸1um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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  • UV Litho-S+无掩膜光刻机
    工业型投影式无掩模光刻机，光源波长405nm，光刻特征尺寸0.5um，支持样品尺寸从3mm×3mm到200mm×200mm。
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  • PL-3D Premium 3D光刻打印设备
    微纳3D打印设备，超高光学精度（最高可达1um），多精度自由切换，多波长紫外光源（405nm/385nm/365nm），切片层厚1-40μm范围可调，大幅面宏微观一体加工，支持样品尺寸100mm×100mm×40mm。
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  • 磁光克尔效应磁滞回线测量仪
    激光波长633 nm，光斑直径1 mm，克尔角分辨率0.001°，磁场强度正负0.36 T，支持样品尺寸<25 mm*25 mm
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  • 磁光克尔综合测试平台
    磁畴分辨率 <1μm，集成磁场、低温、栅压、激光、微波等多种变量于一体，磁-光-电同步测量，垂直磁场强度可达1.4 T，水平磁场强度可达0.7 T。
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  • 磁光克尔显微综合测试设备
    相较于传统的单点磁滞回线测量仪，磁光克尔显微综合测试设备， 可以追踪平面内数百万点的实时磁性动态信息。结合该成像系统提 供的直流探针，高频探针，样品的测试无比便捷。当下自旋电子学 或磁学的研究，已经由磁性驱动的翻转，发展到了直流电流驱动、 脉冲电流驱动、微波脉冲驱动、光驱动等一系列的激励源作用下的 深度研究。实现在室温条件下测试垂直各向异性/面内各向异性材料 材料的磁畴反转过程，成像清晰，拍摄速度达到 30 帧/秒。
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  • 可编程双极性恒流电源
    连续过零点，输出电流功率可达：80 A，6.4KW，支持显示屏本地控制，上位机RS232远程控制，标准19英寸安装尺寸。
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  • 显微光电流光谱测试系统
    托托科技光电流光谱测试系统，适用于光电流、光谱、荧光寿命的微米级点线面扫描测试。
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  • 激光合束模组
    可自由组合所需波长激光器；程控0-100mW功率调节；程控TTL频率调制；包括，但不限于405nm、473nm、532nm、671nm、808nm、1064nm、1342nm、1550nm。
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